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項目別

処理基板 mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700

スパッタ方向

アップ ダウン

装置構成

エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室

基板加熱 ℃

100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800

使用用途

MEMS ガラス基板 研究開発 電子部品 半導体 量産
  1. Metoree
  2. 加工・工作機器
  3. スパッタリング装置
  4. 神港精機株式会社

神港精機のスパッタリング装置

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