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処理基板 mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200

基板加熱 ℃

400 - 500 500 - 800

テルモセラ・ジャパンのスパッタリング装置

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2 点の製品

テルモセラ・ジャパン株式会社

nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ

70人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...


テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト・スモールフットプリント高性能RF/DC マグネトロンスパッタリング装置 nanoPVD-S10A

60人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

■優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5 Pascal ・SUS304高真空チャンバー ・素早い真空到達 (10-3Paまで約10分) ・膜均一性:±3% (絶縁膜...


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