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項目別

処理基板 mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200

基板加熱 ℃

400 - 500 500 - 800

使用用途

研究開発

テルモセラ・ジャパンのスパッタリング装置

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4 点の製品

テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab series フレキシブル薄膜実験装置

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■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...


テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB

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■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...


テルモセラ・ジャパン株式会社

nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ

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特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...


テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着・スパッタソース混在【複合型成膜装置】nanoPVD-ST15A

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■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...


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