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処理基板 mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200

基板加熱 ℃

400 - 500 500 - 800

テルモセラ・ジャパンのスパッタリング装置

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テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト・スモールフットプリント高性能RF/DC マグネトロンスパッタリング装置 nanoPVD-S10A

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■優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5 Pascal ・SUS304高真空チャンバー ・素早い真空到達 (10-3Paまで約10分) ・膜均一性:±3% (絶縁膜...


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