制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
半導体洗浄装置のメーカー20社一覧や企業ランキングを掲載中！半導体洗浄装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:HUGパワー株式会社、2位:株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ、3位:株式会社ダン科学となっています。 半導体洗浄装置の概要、用途、原理もチェック！
半導体洗浄装置とは、半導体製造工程の1つである洗浄工程に用いられる装置の総称です。
洗浄工程は半導体製造工程全体の30〜40％を占める重要な工程です。高温処理工程や薄膜形成工程の前に十分に汚れを除去する前処理としての洗浄と、酸化膜・薄膜を削るエッチング工程の後にレジスト残滓物などを除去する後工程としての洗浄があります。
半導体洗浄装置は、薬液や純水を使用するウェット洗浄装置と薬液を使用しないドライ洗浄装置に大別されます。
関連キーワード
2025年6月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | HUGパワー株式会社 |
15.5%
|
| 2 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
12.0%
|
| 3 | 株式会社ダン科学 |
11.5%
|
| 4 | 株式会社ゼビオス |
8.0%
|
| 5 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
7.2%
|
| 6 | 株式会社JET |
6.9%
|
| 7 | ダイキンファインテック株式会社 |
5.7%
|
| 8 | タツモ株式会社 |
3.7%
|
| 9 | 日本ゴア合同会社 |
3.4%
|
| 10 | 株式会社ケンテック |
3.2%
|
業界別
💻 電子・電気機器項目別
使用用途
#ウエハ洗浄
#酸化膜除去
#有機物除去
#金属汚染除去
#パーティクル除去
#ドライプロセス
#ウエットプロセス
#クリーン化管理
#高純度薬液
対応サイズ インチ
0 - 4
4 - 8
8 - 12
装置寸法 mm
0 - 500
500 - 1,000
1,000 - 1,500
1,500 - 2,000
2,000 - 2,500
2,500 - 3,500
本体重量 kg
0 - 50
100 - 500
電源 V
0 - 100
100 - 200
200 - 250
PHT株式会社
2370人以上が見ています
最新の閲覧: 6分前
100.0% 返答率
57.3時間 返答時間
PHTは半導体業界の中でウェーハ自動剥離装置（剥離洗浄機）のニッチトップ企業として世界に活躍いたします。これまでシリコンウェーハ向...
ブルカージャパン株式会社
610人以上が見ています
最新の閲覧: 49分前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.9時間 返答時間
■マスク向けCO₂精密ドライクリーニング装置 ・フォトマスク用リペア残渣やドライクリーニングによるパーティクル除去 ・マスク縦置きク...
タツモ株式会社
510人以上が見ています
最新の閲覧: 9分前
高度な3次元実装、デバイス薄化の脆弱性対策等を目的としたウェーハの極薄化を支援し、半導体パッケージングの更なる小型化、省 エネを...
ブルカージャパン株式会社
490人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
33.9時間 返答時間
■ウエハ向けCO2ドライクリーニング装置 ・ウェハ向けCO2精密ドライクリーニングによるパーティクル除去 ・最適化された独自ノズルの採用...
タツモ株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
熱硬化型/可塑型材料で貼合されたデバイスの支持体を剥離する装置です。機械剥離後、残渣洗浄まで自動で行います。テープフレームでハン...
タツモ株式会社
430人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
バッチ式洗浄装置TIGRIS®200及びTIGRIS®300は、200mm/300mm対応型の高機能浸漬洗浄エッチングシステムで、業界標準仕様に所有技術を付加...
タツモ株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
枚葉式洗浄システムCENOTE ®は、マルチカップ方式を採用した多機能枚葉式洗浄装置です。クリーンな液体をウェハ表面に連続供給すると同...
ハイソル株式会社
400人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
研究開発用に最適な卓上型の洗浄装置です。CMPといった研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。 ■特徴 ・スクラ...
タツモ株式会社
390人以上が見ています
最新の閲覧: 21分前
窒化膜エッチングに用いられる熱リン酸は、プロセス処理により生成される珪素の濃度が上昇するため、定常的に新液への交換が必要になり...
ハイソル株式会社
370人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
■ 強固なレジスト除去やバリ除去に最適 超音波搭載リフトオフ・有機剥離装置 高品質基板が得られ、ランニングコスト低減を達成。デバイ...
タツモ株式会社
330人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
バッチ浸漬式洗浄モジュールと枚葉式洗浄モジュールを複合させたユニークな装置構成と なっており、フォトレジストやフィルムの剥離処理...
株式会社渡辺商行
320人以上が見ています
最新の閲覧: 46分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
32.7時間 返答時間
IPAの蒸気によって水分を置換し被対象物を乾燥、4～8インチウェハ用、各種洗浄機に組み込み・ドッキング可能 IPA蒸気を使用したウェハ...
コスモ技研株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.9時間 返答時間
コンパクト設計の卓上式UV (紫外線) オゾン洗浄改質装置「CUVDシリーズ」シリコーンウェハー、半導体部品等の有機汚染物質除去に プラ...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
FOUPやFOSBの洗浄により半導体製造の高生産性を維持・向上させる概念が必要不可欠な時代です。IF-12は、1台で各種FOUP/FOSBの洗浄/乾燥...
タツモ株式会社
270人以上が見ています
最新の閲覧: 21時間前
熱リン酸プロセスでは、処理槽内の薬液交換を行った直後には珪素濃度が低過ぎるため、ダミー処理を行う必要があり、生産性が低下してし...
JAPAN BLUE株式会社
260人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
■新しく半導体洗浄装置の導入をお考えの方へ 当社では、仕様決定および設計から、躯体や部品などの加工・製造も行っています。自社で一...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
レチクル専用容器であるRSP200,及びRSP150のフルオート洗浄システムです。高い洗浄性能を搭載した本装置はナノレベルのパーティクル除去...
ハイソル株式会社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
25.5時間 返答時間
■ 半導体の品質にこだわるなら、洗浄にもこだわる 1つのチャンバー内で薬液処理からリンス乾燥までのフルプロセスの実現。薬液の温調循...
株式会社電子技研
250人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
■概要 基板を水平搬送にて、UV洗浄、ブラシ洗浄、シャワースプレー洗浄、超音波洗浄、乾燥処理を行います。 ■特徴 ・UV/03によるシャワ...
北川グレステック株式会社
220人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
220人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
8インチ用SMIFPODの精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面タッチパネル方式のマニュアル洗浄機です。IA-8は、容器洗浄装置メーカー...
株式会社電子技研
200人以上が見ています
■概要 LCD等の基板を水平搬送にて、エッチング／シャワー洗浄／乾燥処理を行います。 ■特徴 ・ディップ、スプレー及び揺動機能方式エッ...
株式会社菱光社
200人以上が見ています
最新の閲覧: 10時間前
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
25.2時間 返答時間
■概要 長年培ってきた技術を活かし、コストダウンに配慮した仕様でご提案が可能です。 ■特長 ・処理槽やリンス槽の数、乾燥方式等カス...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
190人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
190人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUVPODのための全自動洗浄装置 (特許取得済) です。InnerPOD、OuterPODの分解/再組立はもちろ...
株式会社電子技研
180人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■概要 基板をスプレー方式にて現象/エッチング/乾燥処理を行います。 ■特徴 ・スピン＆スプレー併用により高精度で均一なプロセス ・ダ...
株式会社電子技研
180人以上が見ています
■概要 基板をスピン回転及びスプレーにて洗浄/リンス後、高速スピン回転で乾燥を行います。 ■特徴 ・優れたパーティクル除去性能 ・高...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
170人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセ...
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
150人以上が見ています
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.7時間 返答時間
8インチ用SMIFPODの精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面操作方式のマニュアルセット方式です。IA-8は半導体デバイスの容器洗浄装...
北川グレステック株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 11時間前
■製品情報 試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承って...
検索結果 67件 (1ページ/3ページ)
