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半導体材料 メーカー35社

半導体材料のメーカー35社一覧や企業ランキングを掲載中！半導体材料関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:TECOM株式会社、2位:梅郷電子株式会社、3位:信越化学工業株式会社となっています。 半導体材料の概要、用途、原理もチェック！

半導体材料とは

半導体材料とは、半導体デバイス製品を製造する過程で使用される材料全般です。

前行程では表面に半導体チップを形成するウェハ、設計情報である回路パターンをウェハに焼き付けるときに原版として使うフォトマスク、エッチングガスやクリーニングガスなどの半導体材料ガスなどが使われます。後行程ではチップを載せるパッケージ用の金型、チップの電極を外部へ接続するボンディングワイヤ、パッケージ内のチップを保護する樹脂やセラミック製の封止材などが使用されます。

多様な半導体材料の中でもチップ本体を形成するウェハは最も重要な材料であり、一般的に「半導体材料」はウェハを指す場合が多いです。 

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窒化ガリウム

35社半導体材料メーカー

半導体材料 2025年5月のメーカーランキング


見積もりの使い方

業界別

🚗 自動車・輸送用機器 💻 電子・電気機器 ⚙️ プラスチック・ゴム製造 🚀 航空・宇宙

項目別

使用用途

#ウエハ製造 #エッチング #薄膜形成 #ドーピング #CMP研磨 #半導体製造

厚さ μm

400 - 500 500 - 600 600 - 1,200

30 点の製品がみつかりました

30 点の製品

半導体材料 CVD・拡散・SiCコーティング材料-ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

半導体材料 CVD・拡散・SiCコーティング材料

220人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

100.0% 返答率

63.2時間 返答時間

CVD・拡散工程など、薄膜生成のために不可欠な高純度材料の製品をお客様のご要望にお応えし、製造・開発しております。


シリコンエピタキシャルウェハー-株式会社新陽

株式会社新陽

シリコンエピタキシャルウェハー

210人以上が見ています

返信のとても早い企業

100.0% 返答率

1.7時間 返答時間

Φ8inchまでの各種Si Epi wafer を供給いたします。


半導体材料 高純度金属及びその化合物-ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

半導体材料 高純度金属及びその化合物

220人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

100.0% 返答率

63.2時間 返答時間

蒸着材料・MBE材料・ターゲット材料・化合物半導体材料・光学用材料等、あらゆる用途に合わせた高純度金属をご提供いたします。


サファイアエピレディーウェハー-株式会社新陽

株式会社新陽

サファイアエピレディーウェハー

230人以上が見ています

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100.0% 返答率

1.7時間 返答時間

GaNエピ成長用基板として2，4，6インチ各サイズのウェハーを供給いたします。インゴットでの供給も可能です。お気軽にご相談下さい。


薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム-株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム

230人以上が見ています

最新の閲覧: 51分前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル) -株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル)

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


CVDダイヤモンド基板-株式会社豊港

株式会社豊港

CVDダイヤモンド基板

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100.0% 返答率

12.5時間 返答時間

CVDダイヤモンド基板（Chemical Vapor Depositionダイヤモンド基板）は、化学気相成長（CVD）法を用いて製造されるダイヤモンドの薄膜を...


レーザー結晶-株式会社豊港

株式会社豊港

レーザー結晶

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Nd:YVO4　レーザー結晶 Yb:YAG　レーザー結晶 Yb:KGW　レーザー結晶 Ti:Sapphire　レーザー結晶 Nd:KGW　レーザー結晶 Cr:LiSAF　...


非線形光学（NLO）結晶-株式会社豊港

株式会社豊港

非線形光学（NLO）結晶

540人以上が見ています

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LBO　非線形 (NLO) 結晶 BBO　非線形 (NLO) 結晶 BIBO　非線形 (NLO) 結晶 KTA　非線形 (NLO) 結晶 MgO:LiNbO3　非線形(NLO)結晶 K...


光学結晶-株式会社豊港

株式会社豊港

光学結晶

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ホタル石に代表されるフッ化物結晶は、真空雰囲気中において１０００℃以上の高温で結晶を育成しなくてはならず、それには高度な装置・プ...


6インチ熱酸化膜100000Å (両面) 膜付Siウェーハ-株式会社豊港

株式会社豊港

6インチ熱酸化膜100000Å (両面) 膜付Siウェーハ

350人以上が見ています

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ウェーハへの膜付加工を行った製品を「膜付ウェーハ」と呼びます。ウェーハの成膜プロセスには、絶縁膜としての層間絶縁材料、導電材料...


SiCエピタキシャルウェーハ-株式会社豊港

株式会社豊港

SiCエピタキシャルウェーハ

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単結晶SiCの製品を提供しております。 2～4インチ4H/6H-P SiCウェーハ 2～4インチ3C SiCウェーハ 4～8インチ4H-N SiCウェーハ 4～8イン...


薄膜成長用酸化物基板 サファイア-株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 サファイア

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■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


セラミックス製品 電気絶縁性、高強度、耐摩耗性 高純度アルミナセラミックスADS-株式会社渡辺商行

株式会社渡辺商行

セラミックス製品 電気絶縁性、高強度、耐摩耗性 高純度アルミナセラミックスADS

220人以上が見ています

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32.7時間 返答時間

ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結体で、高強度、耐摩耗性、化学的安定性などに応えます。 ■基本情報 ...


セラミックス製品 超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現 SiCダミーウェハ-株式会社渡辺商行

株式会社渡辺商行

セラミックス製品 超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現 SiCダミーウェハ

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32.7時間 返答時間

独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱性、高耐摩耗性の特性を持ちます。 ■基本情報 超高純度で耐食性及び...


薄膜成長用酸化物基板 ネオジガレート-株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 ネオジガレート

140人以上が見ています

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


株式会社オーエステック

SrTiO3単結晶基盤 / SrTiO3-Nb 単結晶基盤

120人以上が見ています

■特徴 ・ドープ量：Nb 0.7wt% ・最大20mm角 まで可能


薄膜成長用酸化物基板 ランタンアルミネート-株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 ランタンアルミネート

150人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


薄膜成長用酸化物基板 LSAT-株式会社信光社

株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 LSAT

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


株式会社オーエステック

MgO単結晶基盤

80人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

(100) は最大50mm角、直径3”まで可能です。その他の方位の最大サイズは要御相談です。


株式会社オーエステック

LaAlO3単結晶基盤

90人以上が見ています

(100) は最大50mm角、直径2”まで可能です。その他の方位の最大サイズは要御相談です。


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

ベタ膜ウェーハ

530人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

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5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

11.5時間 返答時間

300mmベタ膜ウェーハリスト ※他にも品番がございます。


株式会社オーエステック

YSZ単結晶基盤

100人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

最大50mm角、直径2”まで可能です。その他の方位の最大サイズは要御相談です。


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

光通信用SOIウェーハ

210人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信の早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

11.5時間 返答時間

■概要 光通信用光導波路をアプリケーションとした薄膜SOIウェーハ製造を承ります。埋込酸化膜は3〜5μm、光導波路用薄膜活性層は100〜500...


CHEMFISH TOKYO株式会社

CVD・ALD材料

810人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

100.0% 返答率

91.5時間 返答時間

■概要 半導体ALD/CVDプリカーサーは、半導体薄膜堆積プロセスの中核原料であり、化学気相成長法 (CVD) と原子層堆積法 (ALD) により金属...


住友精化株式会社

IC・メモリー・液晶・太陽電池等に 機能マテリアル 半導体用ガス

1010人以上が見ています

最新の閲覧: 14時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

26.2時間 返答時間

■IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガス ・当社は1970年代にはじめて半導体グレードの高純度NH3を開発して以来、...


株式会社オーエステック

高純度AlNダミーウェーハ

140人以上が見ています

■特徴 ・Siにマッチした熱膨張係数を有し、また熱衝撃に強く急熱・急冷に耐えます。 ・助剤レスであり、金属汚染及びパーティクル の発...


株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 スピネル

140人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 酸化マグネシウム

110人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

返信の比較的早い企業

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 YSZ

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30.1時間 返答時間

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています...


見積もりの使い方

📔 半導体材料の基礎知識

半導体材料とは

半導体材料

半導体材料とは、半導体デバイス製品を製造する過程で使用される材料全般です。

前行程では表面に半導体チップを形成するウェハ、設計情報である回路パターンをウェハに焼き付けるときに原版として使うフォトマスク、エッチングガスやクリーニングガスなどの半導体材料ガスなどが使われます。後行程ではチップを載せるパッケージ用の金型、チップの電極を外部へ接続するボンディングワイヤ、パッケージ内のチップを保護する樹脂やセラミック製の封止材などが使用されます。

多様な半導体材料の中でもチップ本体を形成するウェハは最も重要な材料であり、一般的に「半導体材料」はウェハを指す場合が多いです。 

半導体材料の使用用途

半導体材料 (ウェハ) には単一の元素から作られる半導体と2つ以上の元素を材料とする化合物半導体の2種類があり、それぞれの特徴に応じて半導体分野で使用されています。

単一元素半導体はシリコン (Si) とガリウム (Ga) が代表的で、とくにシリコンウェハが主流です。比較的安価で、大口径のウェハを製造しやすいため、低コスト品などの半導体製品に用いられます。

化合物半導体にはシリコンカーバイド (SiC) 、窒化ガリウム (GaN) 、ガリウム砒素 (GaAs) などがあります。化合物半導体は結晶内の電子の動きがシリコンよりも速く、受発光機能に優れているため、高周波デバイス、高速コンピュータ、LED、光通信機器などに利用可能です。

半導体材料の原理

半導体材料 (ウェハ) の中でも最も多く使われているシリコンウェハは高純度のシリコンで作られた円形の薄い板です。

1. 単結晶引上工程

シリコンウェハの製造では、まずケイ素を精錬・精製して高純度化された多結晶シリコンを作り、それを原料として単結晶引上工程で単結晶インゴットを製造可能です。

単結晶引上工程では多結晶シリコンをホウ酸 (B) やリン (P) と一緒に石英ルツボの中で融解させ、融解シリコンの液面に種結晶シリコン棒をつけて回転させながら引き上げ、単結晶インゴットを作ります。このとき加える微量のホウ酸やリンが最終製品である半導体の電気特性に大きく影響します。

2. ウェハ加工工程

単結晶のインゴットは次のウェハ加工工程で薄くスライスしてウェハ状にした後、研磨してウェハ表面の凹凸をなくす鏡面加工を施します。研磨加工はポリッシュとも呼ばれ、この段階のウェハをポリッシュト・ウェハと呼びます。

ポリッシュト・ウェハはそのままでも半導体として使用可能です。半導体メーカーの要望に応じてさらに特殊加工を追加し、高温熱処理 (アニール処理) でウェハ表面の酸素を除去した微細化製品向けアニール・ウェハやウェハ表面にシリコン単結晶を気相成長 (エピタキシャル成長) させたエピタキシャル・ウェハなどが作られています。

半導体材料の種類

半導体は機能の集積度で主に3種類に分けられます。代表例はディスクリート半導体、IC (集積回路) 、LSI (大規模集積回路) です。

1. ディスクリート半導体

単一の機能を持つ素子で、半導体の中で最も集積度が低いです。ディスクリート半導体の代表例はダイオードやトランジスタです。ダイオードは一方向に電流を流す機能を有し、トランジスタは電流を制御する機能を持っています。ディスクリート半導体は、自動車、パソコン、スマートフォンなどの身近な機器に数多く利用されています。

2. IC (集積回路)

IC (英: Integrated Circuit) は複数の素子を集積させたものです。多数のトランジスタやダイオードを組み合わせて構成し、集積度によってSSI (英: Small Scale Integration) 、MSI (英: Middle Scale Integration) 、LSI (英: Large Scale Integration) に分類されています。

3. LSI (大規模集積回路)

LSIはICの中の一種で、集積度が高いものです。ICとLSIを同じ意味で用いる場合も多いです。 LSIはダイオード、トランジスタ、受動素子を集積したもので、複雑な機能を有します。自動車、パソコン、スマートフォン、オーディオ、デジタルカメラを代表として、人々の生活を便利にする製品に幅広く使用されています。

参考文献
https://toshiba.semicon-storage.com/jp/semiconductor/knowledge/e-learning/discrete/chap1/chap1-2.html
https://sei.co.jp/sc/com_semi/tokucyou.html
https://www.sumcosi.com/products/process/

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