オゾン水生成装置のメーカー20社を一覧でご紹介します。まずは使用用途や原理についてご説明します。
目次
オゾン水生成装置はオゾンを一定量溶解させた水を生成する装置です。オゾンとは化学式ではO3と表される酸素の同素体の一つです。オゾンは強い酸化剤であるためオゾン水を用いることで雑菌や微生物の殺菌効果や有機物の汚れの除去が可能です。
オゾン水生成装置では酸素ガスを装置に流した状態で放電し、酸素分子を分解させてオゾンガスを生成します。オゾン水の原料は水と酸素ガスであるため、特殊な溶剤や試薬を用意する必要がない点が特徴です。
オゾンは強力な酸化剤であるため、オゾン水は高い殺菌効果、汚れの除去に用いられます。雑菌や微生物によるぬめり等の除去にも効果的であり、脱臭効果も有するため器具などの洗浄として食品業界、飲食業界で用いられるほか、医療業界でも用いられます。
その他、オゾン濃度を高めることで有機物の分解やエッチングの効果も有するため、半導体や液晶、太陽電池などの電気、電子機器の業界における基板などの洗浄にもオゾン水は用いられます。
オゾンとは化学式O3で表される物質であり、大気に存在する酸素であるO2よりも酸素原子が一つ多く結合しています。オゾンは比較的不安定な物質であり、酸素分子O2と酸素原子に分かれます。この分かれた酸素原子は有機物との反応性が高いため、微生物や雑菌に攻撃することによる殺菌や臭いのもととなる化合物の分解を引き起こすことができます。なお、高濃度のオゾンは人体にも有害ですが、オゾン水に含まれるオゾン濃度は小さいことからオゾン水生成装置自体は安全に使用可能です。
なお上記の通りオゾンは比較的不安定な物質であるため、オゾン水も保管中にオゾンが分解してしまいます。オゾンが分解された水は殺菌力等が低下してしまいます。そのため、装置で生成したオゾン水はすぐに使用することが望ましいです。また、用途に応じて最適なオゾン濃度は異なります。殺菌などの使用時は数ppm程度のオゾン濃度で十分ですが、シリコン基板の洗浄など電子材料の洗浄時は数十ppm程度のオゾン濃度が適切です。
参考文献
https://www.sat.co.jp/product/ozonegw/sat-w.php
https://www.mtk-2.com/product-info/ozone_generator.html
https://www.hamanetsu.co.jp/products/clean/how/
社員数の規模
設立年の新しい会社
歴史のある会社