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真空プラズマ装置のメーカー7社一覧や企業ランキングを掲載中！真空プラズマ装置関連企業の2025年11月注目ランキングは1位:ストレックス株式会社、2位:テクノアルファ株式会社です。
真空プラズマ装置とは、真空状態の容器内でプラズマを発生させて対象物の表面を処理する装置です。
プラズマは、固体・液体・気体に次ぐ第4の状態と呼ばれます。高いエネルギーを気体に与えると、プラスの電気を帯びたイオンとマイナスの電気を帯びた電子に気体分子が分かれた状態になります。この電離した気体がプラズマです。
真空プラズマ装置は、真空ポンプで容器内部の空気を抜いて真空状態にした後、アルゴンや酸素などのガスを導入します。そこに高周波の電力を加えることで、導入したガスをプラズマ状態へ変化させます。作り出したプラズマの高いエネルギーを利用して、対象物の表面の洗浄や性質の変化を実行する仕組みです。新しい薄膜を作りだすことも可能で、様々な分野や場面の表面処理に使用されます。
2025年11月の注目ランキングベスト2
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | ストレックス株式会社 |
50.0%
|
| 2 | テクノアルファ株式会社 |
50.0%
|
23 点の製品がみつかりました
23 点の製品
株式会社新興精機
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・電極反転機能を標準装備。 ・RIEモードでナノエッチングが可能。 ・タッチパネルPCを刷新。より使用しやすくなりました。 ・特許取得...
株式会社新興精機
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・電極反転機能を標準装備。 ・RIEモードでナノエッチングが可能。 ・タッチパネルPCを刷新。より使用しやすくなりました。 ・特許取得...
株式会社魁半導体
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コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。 ■製品の特徴 ...
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・最大10レシピを保存できます。 ・すべての制御がデジタルで、高い再現性が保たれます。 ・特許取得のガスフローデザインで均一な処理...
株式会社魁半導体
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様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。 ワンタッチの簡...
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・電極反転機能を標準装備。 ・RIEモードでナノエッチングが可能。 ・タッチパネルPCを刷新。より使用しやすくなりました。 ・特許取得...
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板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。 接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に (着床...
株式会社魁半導体
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SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。 ■製品概要 ・プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステー...
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一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能。 電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応。 ■用途 ・ボトル内面および...
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PTFE (テフロン) の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など ■製品概要 ・プラズマ装置CPEシリーズにお手頃価格のセミオ...
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粉体やチップコンデンサの処理に最適。 真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました。 ■製品概要 ・表面...
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SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。 ■製品概要 ・コンパクト ・簡単な操作性 ・タッチパネル操作 (オー...
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■製品概要 ・真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入 ・乾式で全面一括処理 ・グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保 ・回転式のた...
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テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。 ■用途 ・PTFE (テフロン) の親水化 (要NH3) ・各種素材の撥水処理 (要CF4) ・...
2種類の品番
株式会社魁半導体
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■製品概要 ・多段式の電極で大量処理 ・電極構造を変えることで様々な容器に対応 ・ワンボタン操作も可能 ・生産用途に最適 ■オプショ...
オレンジサイエンス株式会社
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卓上型真空プラズマ処理装置 PC-400T ストレックス(STREX)社 プラズマ放電にさらすことで、従来の洗浄方法では難しかった表面汚染物質の...
エーイーティーピージャパン合同会社
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■有機材料への表面活性、無機材料への表面洗浄に最適な真空プラズマ マイクロ波 (GHz) による高励起周波は、チャンバー内で発生するプ...
株式会社新興精機
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LF真空プラズマ装置は、材料研究分野において基板上の有機物除去や表面修飾などの用途に最適なプラズマクリーナーです。LFプラズマからR...
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VITAシリーズは、研究や試作目的の使用に開発されました。簡単な操作で使用でき、エッチングやアッシングに最適です。
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LF真空プラズマ装置は、材料研究分野において基板上の有機物除去や表面修飾などの用途に最適なプラズマクリーナーです。LFプラズマからR...
真空プラズマ装置とは、真空状態の容器内でプラズマを発生させて対象物の表面を処理する装置です。
プラズマは、固体・液体・気体に次ぐ第4の状態と呼ばれます。高いエネルギーを気体に与えると、プラスの電気を帯びたイオンとマイナスの電気を帯びた電子に気体分子が分かれた状態になります。この電離した気体がプラズマです。
真空プラズマ装置は、真空ポンプで容器内部の空気を抜いて真空状態にした後、アルゴンや酸素などのガスを導入します。そこに高周波の電力を加えることで、導入したガスをプラズマ状態へ変化させます。作り出したプラズマの高いエネルギーを利用して、対象物の表面の洗浄や性質の変化を実行する仕組みです。新しい薄膜を作りだすことも可能で、様々な分野や場面の表面処理に使用されます。
真空プラズマ装置は以下のような用途で使用されます。
半導体の製造プロセスでは、不要な薄膜を除去するエッチングや、回路の作成後の感光材を除去する工程でプラズマを利用します。また絶縁膜や導電膜といった高機能な薄膜をウェハ上に形成する成膜工程にも不可欠です。プラズマを用いることで、低温で高品質な膜を精密に制御しながら作製できるため、半導体の高集積化と高性能化を支える基幹技術です。
レンズやセンサーなどの光学部品の性能向上にも真空プラズマ装置を使用します。代表的な例が、レンズ表面の反射防止膜の形成です。プラズマを利用して複数の薄膜をナノレベルの厚さで積層させることで、特定の波長の光の反射を効果的に防ぎます。またメガネのレンズやスマートフォンのカメラレンズなどの傷を防止する硬質膜を成膜するためにも活用されます。
医療分野では、手術器具やインプラントの精密洗浄や滅菌に利用されます。プラズマによる処理は、熱に弱い素材を傷めることなく細菌やウイルスを不活性化できる点が特徴です。また材料表面の性質を変化させ、生体の拒絶反応を起きにくくするための表面改質にも応用されます。
