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スパッタリング装置 RFS-201取扱企業
三弘エマテック株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2024年9月9日にレビュー済み
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27.47時間
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | メーカー | 到達圧力 (Pa) 絶対圧表記 | 到達圧力 (kPa) ゲージ圧表記 | 排気時間 | 真空層 | カソード | 基板推奨サイズ | 有効成膜範囲 | 成膜速度 (mm) | 膜厚分布 | 基板加熱温度 | 基板/電極間距離 | メインポンプ | 液体窒素トラップ | 補助ポンプ | オイルミストトラップ | メインバルブ | 補助バルブ | 自動リークバルブ | 操作 | RF電源 | ピラニ真空計 | 電離真空計 | 最大寸法 (mm) | 質量 (kg) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RFS-201 |
要見積もり |
アルバック機工 (株) |
6.6×10-4 |
-101.3 |
6.6×10-3Pa/5min |
金属チャンバー (200mm (W) ×250mm (D) ×150mm (H) ) |
φ80mm、1元 |
φ80mm×t1-5mm |
50mm |
SiO2 成膜にて、20nm/min以上 |
SiO2 成膜にて、50mm領域±8%以内 |
Max 350℃ |
30~50mm (可変) |
油拡散ポンプ (水冷) 150L/sec |
オプション |
油回転真空ポンプ 100L/min |
OMT-100A |
クラッパーバルブ |
三方向バルブ |
オプション |
手動 |
Max 300W (0~300W可変) |
G-TRAN |
オプション |
764 (W) × 723 (L) × 1,648 (H) |
260 |
