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シリーズ
粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置取扱企業
アリオス株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 成膜チャンバー | 主な搭載機器 | 排気系統 (一例) | 到達圧力 | カソードユニット ターゲット寸法 | カソードユニット 冷却方法 | カソードユニット DC電源 出力 | 試料ホルダ サイズ・形状 | 試料ホルダ 処理容量 | 試料ホルダ ホルダ材質 | 試料ホルダ 回転機構 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置 |
要見積もり |
φ360mm×L350mm (内寸) / SUS304 |
矩形マグネトロンカソードユニット |
ターボ分子ポンプ (355L/s) |
5×10^-4Pa以下 (チャンバー内が空の状態にて) |
50mm×150mm×t5mm (磁性体はt1mm) |
水冷 (接点付き流量計) |
MAX 1kV・1.2A (1,200W) 可変 |
ドラム形状 (円筒型) |
0.5/1バッチ (試料直径:φ0.5mm) |
SUS304 |
モータ駆動 (0-20rpm可変) |
蒸着装置の中で同じ条件の製品
使用用途: 表面改質
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15