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「分光放射照度測定システム IL100」は、光源による照度を評価します。 ・分光放射照度測定から高精度に照度を測定。 ・紫外から可視、...
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「紫外分光放射照度測定システム IL100」は、光源の紫外域での放射照度を評価します。分光放射照度測定から高精度に照度を測定。紫外か...
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フィルムなどの研究開発や品質管理の抜き取り検査に、オフラインで簡単に面内膜厚ムラ検査が可能な装置です。全面を高速かつ高精度に測...
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PCR からキャピラリー電気泳動までシームレス。 ■PCRとキャピラリー電気泳動が1台となり、2stepで遺伝子解析が可能 ・操作は簡単2step ...
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動的光散乱法を用いた粒子径・粒子径分布 (粒径・粒径分布) 測定が可能です。 ■特長 ・動的光散乱法を用いた粒子径・粒子径分布 (粒径...
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照明器具の配光特性を測定する装置です。 ・開発分光器を使用することで高精度測定を実現。 ・配光データと一緒に色の測定が可能。 ・...
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当社のMCPD seriesは、フレキシブルファイバーを採用することにより、In-Situからインラインまで様々な場所や用途への組込みが可能にな...
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パターンマッチ機能搭載、X-Y位置決め精度2um以下のシステムです。 ■特長 ・Φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対...
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光軸の高精度管理。3σ≦0.02° 低リタデーション測定に。 ■特長 ・0nmからの低 (残留) リタデーション測定が可能 ・光軸検出と同時にリ...
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小角光散乱法 (SALS) を用いて、高分子やフィルムの構造をリアルタイムに、連続的に評価できる装置です。光源に可視光を使用している為...
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波長依存性を有する多層膜測定を高精度に実現。 ■特長 ・分光干渉法を用いた膜厚計 ・高精度FFT膜厚解析エンジンを搭載 (特許 第48348...
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ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行います。 ■特長 ・光学式により非接...
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高精度な光干渉法による膜厚測定を簡単操作で実現した小型で低価格な膜厚計です。必要な機器を本体部に収納したオールインワンタイプの...
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■特長 半導体の研究開発や生産現場において、ウェーハ基板上の薄膜を全面測定できる装置です。独自の分光干渉法と新たに開発した高精度...
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顕微分光膜厚計OPTM seriesの高精度、微小スポットを生かし、ウェーハのパターン作成後の微小エリア測定など、インラインで膜厚情報を提...
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ウェーハ等の研削研磨プロセスを非接触でウェーハや樹脂の超高速リアルタイム・高精度に測定します。 ■特長 ・非接触、非破壊で厚み測...
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高精度で持ち運び可能な膜厚計。 ・「測りたい“その場”ですぐに測れない」 ・「人によってバラつく測定結果」 ・「測定精度が悪い」 ...
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紫外LEDの配光特性を評価します。放射強度/放射照度による配光評価。分光配光で波長毎に放射強度を評価。殺菌や樹脂硬化用光源の照射ム...
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| 郵便番号 | 〒573-1132 |
|---|---|
| 本社住所 | 大阪府枚方市招提田近3丁目26-3 |
| 創業年 | 1970年 |
| 資本金 | 245,250,000円 |
| 従業員数 | 206人 |
| 法人番号 | 3120001149235 |
| 会社区分 | メーカー |
| リンク | 大塚電子株式会社 ホームページ |
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