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洗浄装置のメーカー206社一覧や企業ランキングを掲載中！洗浄装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:OKIネクステック株式会社、2位:株式会社イー・スクエア、3位:HUGパワー株式会社となっています。 洗浄装置の概要、用途、原理もチェック！
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
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2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | OKIネクステック株式会社 |
6.6%
|
| 2 | 株式会社イー・スクエア |
5.2%
|
| 3 | HUGパワー株式会社 |
4.3%
|
| 4 | 株式会社ダン科学 |
3.8%
|
| 5 | エンバイロ・ビジョン株式会社 |
2.8%
|
| 6 | 東光技研工業株式会社 |
2.8%
|
| 7 | 有限会社アイエムエイ |
2.8%
|
| 8 | 株式会社ケンテック |
1.9%
|
| 9 | 株式会社パートナーズコーポレーション |
1.9%
|
| 10 | 株式会社ユニカル |
1.9%
|
業界別
🍎 食品 💊 製薬・医薬品 🚗 自動車・輸送用機器 🏗️ 建築・建設 🧪 化学 💻 電子・電気機器 ⚡ エネルギー ♻️ 環境・リサイクル 👗 アパレル ⚙️ プラスチック・ゴム製造 🧵 繊維 🏥 医療 🧬 バイオ 🔩 金属加工項目別
使用用途
#除菌殺菌
#乾燥
#精密洗浄
#異物除去
#脱脂
#油分除去
#容器洗浄
#タンク洗浄
洗浄方式
超音波洗浄型
スプレー洗浄型
浸漬洗浄型
真空洗浄型
洗浄媒体
水系洗浄型
溶剤洗浄型
搬送方式
バッチ型
インライン型
乾燥方式
温風乾燥型
真空乾燥型
洗浄方式
アーチ旋回洗浄
スチーム洗浄
ブラシ洗浄
温水洗浄
乾式洗浄
高圧洗浄
循環洗浄
洗剤洗浄
超音波洗浄
噴射洗浄
泡洗浄
薬液洗浄
消費電力 kW
0 - 1
1 - 10
10 - 50
50 - 100
100 - 500
電源電圧 V
0 - 50
50 - 100
100 - 150
150 - 200
200 - 260
タンク容量
0 - 10
10 - 50
50 - 100
100 - 200
200 - 500
500 - 1,000
1,000 - 1,500
1,500 - 4,500
洗浄液
アルカリ性界面活性剤
ゲルピカラボ
スチーム
パインアルファ
プロピレングリコール
市水
純水
水石鹸液
精製水
専用アルカリ洗剤
専用酵素洗剤
中性洗剤
溶剤
対象ワーク
ウェハー
オリコン
カブ
ガラス瓶
クレート
ゴボウ
コンテナ
プラスチックトレー
マスク
メタルマスク
基板
金型
人参
大根
駆動方式
ダブルモーター
エア駆動
シングルモーター
ギヤ駆動
軸流タービン
コンベア駆動
ペルトン型タービン
トリプルウォッシュ
スパイラル搬送
日東精工株式会社
650人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
返信の早い企業
4.3 会社レビュー
100.0% 返答率
11.8時間 返答時間
水と空気からマイクロバブルを発生させ、油分や汚れを落とす環境負荷の少ない洗浄装置をご提案します。 マイクロバブル洗浄装置 (バブ...
高橋金属株式会社
520人以上が見ています
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
11.0時間 返答時間
■高橋金属では20年以上前から電解イオン水を産業用洗浄用途に開発し、沢山のお客様に ご採用いただいてきました。 電解イオン水洗浄とは...
タイセイクリンケミカル株式会社
140人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.8時間 返答時間
■特徴 ・低いコスト：不燃性有機溶剤による低イニシャルコスト溶剤の使用量従来型の1/5～1/10と低ランニングコスト ・高い洗浄性：一般...
ハイソル株式会社
460人以上が見ています
最新の閲覧: 32分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
29.2時間 返答時間
研究開発用に最適な卓上型の洗浄装置です。CMPといった研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。 ■特徴 ・スクラ...
株式会社渡辺商行
330人以上が見ています
最新の閲覧: 43分前
返信の比較的早い企業
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
29.1時間 返答時間
機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備。RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用 弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レ...
OKIネクステック株式会社
1100人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
15.7時間 返答時間
■スクリーン版/メタルマスク版の性能維持 版の金属枠とマスクの接着部分に洗浄液がかからないため、テンションが緩む事象および接着部分...
4種類の品番
NCC株式会社
190人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
17.3時間 返答時間
概要 ■厳しいコンタミ除去要求に応える、新しい高品質洗浄装置 特許出願中 (ハイブリットコンデンサ) のオリジナル洗浄機『ACSysシリー...
テクノロール株式会社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 5時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.8時間 返答時間
ARC-Ⅱはローラ・ベルトを自動洗浄する装置です。生産ラインを停止される事なく、洗浄する事で『歩留まり』『品質安定の向上』『作業時間...
株式会社菱光社
250人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
4.7 会社レビュー
100.0% 返答率
22.6時間 返答時間
■概要 長年培ってきた技術を活かし、コストダウンに配慮した仕様でご提案が可能です。 ■特長 ・処理槽やリンス槽の数、乾燥方式等カス...
日本アレックス株式会社
90人以上が見ています
最新の閲覧: 14時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
23.3時間 返答時間
■製品について 大流量スプレー (シャワー) による効率的な洗浄。全方向からの強力シャワー洗浄によりムラなく洗浄。エアブロー乾燥も可...
PHT株式会社
1470人以上が見ています
最新の閲覧: 18時間前
100.0% 返答率
57.3時間 返答時間
半導体洗浄装置とは、半導体製造工程の1つである洗浄工程に用いられる装置の総称です。 洗浄工程は半導体製造工程全体の30〜40％を占め...
株式会社マルヤス
820人以上が見ています
最新の閲覧: 13時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.2時間 返答時間
スクリュープレッシャーはスクリューなどの長尺の金属部品を洗浄するための装置です。温度 (145℃以下) と圧力 (0.5MPa以下) の力で専用...
3種類の品番
株式会社ブルー・スターR&D
1230人以上が見ています
最新の閲覧: 11分前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
34.3時間 返答時間
誤解だらけの超音波洗浄を排し、真・超音波洗浄技術の採用を。飛躍的な洗浄効果と品質の安定をお約束します。 キャビティーション強化...
3種類の品番
株式会社テクノビジョン
30人以上が見ています
■製品概要 モデル「TCC-803 カセット洗浄装置」は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリア...
東光技研工業株式会社
470人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
29.9時間 返答時間
■主仕様 液中での高圧噴流による強力な剥離力と洗浄剤の効果で、基板・電子部品のフラックスを除去します。環境に悪影響のない水系洗浄...
壽環境機材株式会社
600人以上が見ています
最新の閲覧: 23時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
30.2時間 返答時間
汚れのきついあらゆる小物部品の洗浄に特化した洗浄装置です。 ■仕様 ・超音波により頑固な汚れも洗浄出来ます。 ・揺動渦流洗浄方式に...
JAPAN BLUE株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■新しく半導体洗浄装置の導入をお考えの方へ 当社では、仕様決定および設計から、躯体や部品などの加工・製造も行っています。自社で一...
日東精工株式会社
640人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
4.3 会社レビュー
100.0% 返答率
11.8時間 返答時間
水と空気からマイクロバブルを発生させ、油分や汚れを落とす環境負荷の少ない洗浄装置をご提案します。 マイクロバブルスプレー洗浄装...
ジャパンクリエイト株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
114.9時間 返答時間
■特徴 ・当社独自ノズル:CO2ラバージェットノズル使用 個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、最適な洗浄条件を提案可能 ・真空環境...
ザ・ブルーボアハウス株式会社
220人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信の早い企業
100.0% 返答率
6.9時間 返答時間
■特長 Meechの省エネ安全ノズルは、圧縮空気を曲面上に導きます。この動作により、周囲の空気が取り込まれ、空気の総流量が増加します。...
フジトク株式会社
160人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
64.8時間 返答時間
■概要 紫外線洗浄・表面改質が省スペースで行えます。コア部品である石英管加工技術によりコンパクト設計を実現。
株式会社中部
250人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
12.3時間 返答時間
■0.1mm以下の薄膜ガラス洗浄も可能。有機EL洗浄・フィルム洗浄にも。 エアロピュア社製の洗浄機『イレザック』は最小限のストレスで最大...
丸善工業株式会社
300人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
22.4時間 返答時間
特長 ■自動洗浄なので作業効率が上がります フィルターをセットし、洗浄ボタンを押すだけで後は自動で洗浄します。 ■フィルターは洗浄...
株式会社マツケン
150人以上が見ています
100.0% 返答率
54.5時間 返答時間
■洗浄装置 洗浄装置は、水系シャワー式をはじめ、水系・炭化水素系超音波洗浄装置や航空機部品用のエッチング装置、また、ご要望に応じ...
タイセイクリンケミカル株式会社
100人以上が見ています
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
1.8時間 返答時間
■特徴 ・低いコスト：不燃性有機溶剤による低イニシャルコスト溶剤の使用量従来型の1/5～1/10と低ランニングコスト ・高い洗浄性：一般...
PHT株式会社
1650人以上が見ています
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100.0% 返答率
57.3時間 返答時間
■装置開発背景 半導体用基板として最も多く使用されているのはSi基板 (シリコンウェーハ) である。近年では、パワー半導体用基板としてS...
田端機械工業株式会社
410人以上が見ています
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返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.3時間 返答時間
スクリューに固着したポリマーを炭化炉で融解除去し、部品表面の薄い炭化皮膜となった残留樹脂をエアブラストで除去します。 スクリュ...
株式会社エコートプレシジョン
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HUGパワー株式会社
40人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
■半導体向け/ASTE (アステ) エッチング後のポリマ除去/ウェハ上の異物除去に有効 ■高価なアミン系剥離剤がいらない アミン系剥離剤の...
ケンマージャパン株式会社
20人以上が見ています
■基板測定装置 基板の外形・スリット寸法や穴位置を高速検査 ■清掃アイテム・装置 用途に合わせてお選びいただけるハンディタイプのク...
検索結果 764件 (1ページ/21ページ)
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
具体的な洗浄装置の使用例は、次の通りです
洗浄装置は、汚れの種類、洗浄対象の大きさ、洗浄時間、洗浄精度などを考慮して選択します。また、洗浄方法や使用する洗浄剤、乾燥方法なども重要です。
半導体プロセスの場合、洗浄の役割はウェーハの汚れを除去することです。汚れはパーティクルと呼ばれる目に見えない小さなごみ、人の垢・フケに含まれる有機物、汗などの油脂、工場内で使っている金属による汚染などがあります。
洗浄装置は、この汚れを溶剤や純水で洗い流します。洗浄後は、乾燥が必須です。ドライイン・ドライアウトと呼ばれ、必ず乾燥させてから、ウェーハを装置から出します。
洗浄装置で代表的な方式は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などです。
超音波洗浄装置は、薬液中に洗浄対象物を入れ、内部を超音波で振動されることで洗浄する装置です。洗浄対象により、振動の大きさや周波数を選定します。
スプレー洗浄装置は、ノズルから気体や液体を噴出させて対象物を洗浄する方式です。ハンディタイプの洗浄装置もあり、洗浄対象が大きくても対応が可能です。
ブラシ洗浄装置は、ブラシを用いて汚れを取り除いた後、溶液やスプレー洗浄を用いて汚れを洗い流す装置です。ブラシという物理的な方法で洗浄するため、取り除きにくい汚れを洗浄することができます。
ドライ洗浄装置は、UV (紫外線) を洗浄対象物に照射して、オゾンと活性酸素を生成し、活性酸素と汚れを反応させて、汚れを取り除く方式です。半導体やディスプレイの製造現場で主に使用されます。
溶剤洗浄装置は、溶剤の溶解力を利用することにより、汚れを溶かして取り除く装置です。非常に危険な溶剤を使用する場合があるので、注意が必要です。
洗浄装置の基本的構成は、搬送系、処理槽、純水槽、乾燥ステージです。搬送系は対象物を搬入・搬出する装置で、処理槽の中で対象物を洗浄します。純水槽は対象物に付着した薬液を洗い流す槽、乾燥ステージは対象物を乾燥させる装置です。
1種類の処理液で洗浄できる汚れは1つが原則であり、複数の汚れを洗浄する場合は、複数の処理槽と純水槽が必要です。半導体の製造プロセスでは、複数のウェーハをまとめて処理するバッチ式と、ウェーハを1枚ずつ処理する枚葉式の装置が使われます。
バッチ式は、キャリアと呼ばれるケースにウェーハをまとめて入れ、キャリア毎処理層に入れて洗浄します。また、枚葉式は、ウェーハを1枚ずつ回転させながら、スプレー式の洗浄を行います。
半導体の洗浄は、複数の処理液を使用します。各処理液で除去可能な汚れが異なります。各処理の後に純水で洗い流しを行います。
最後にウェーハを純水で洗い流して、乾燥工程を行います。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf/-char/ja
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_95/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal1888/85/924/85_924_1595/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf
