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株式会社イー・スクエア

  • 京都府
  • 1999年
  • メーカー
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  • 創業年 1999年


会社概要

1999年8月設立、ドライエッチングガス(PFC)のプラズマ式排気ガス除害装置開発(Dry Etching装置やCVD装置向け)製造販売。
 2000年に大気圧プラズマを用いた同PFCガスの分解及びポリマー化での除害性能を確立。この応用技術として、表示デバイス市場等への投入、液晶市場を中心に種々の アプリケーションを開発製造し、国内外液晶市場・タッチパネル市場、半導体市場に販売累計1200台以上(2021年現在実績)の実績を誇る。


事業内容

大気圧プラズマ表面処理装置全般(長尺物・幅広ワーク・フィルム・粒子・繊維束・その他)
①ダウンストリーム型(Preciseシリーズ)
 半導体素子、液晶基板等へのダメージレス処理・particle free化を実現
(処理幅100mm幅~G10.5 2950mmへの均一処理)

②プラナー型(Precise Pシリーズ)
 処理幅100mm幅~1500mm R to R対応

③スポット型 (Precise Sシリーズ) 照射幅5mm~25mm(ヘッド固定・回転式) 低価格190万円~
 使用ガスN2またはDry Air

④各種ラボ用実験機設計製造/立ち合い実験可能


主要取引先

国内:ソニー・三菱電機・セイコーエプソン・東レ・コニカミノルタ・JDI・JOLED・シャープ・
SDP・京セラ・日本電気硝子・凸版・東レエンジニアリング・スタンレー・キャノン・
HOYA・NISSHA・日本板硝子・帝人・住友化学・パナソニック・芝浦機械・DNS・東京大学・早
稲田大学・名古屋大学・名古屋産業振興公社・国立産業総合研究所・その他公共機関・その他

台湾:INNOLUX・AUO・HANSTER・財団法人工業技術研究院(ITRI)・鴻海精密工業・その他

中国:BOE・CSOT・CHOT・PANDA・SOI・SDP ・TPK・BOEN・TOKEN・天馬微電子・B.Y.D・華佳彩 その他


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会社基本情報

郵便番号 〒613-0032
本社住所 京都府久世郡久御山町栄二丁目1番地210
創業年 1999年
資本金 81,500,000円
法人番号 1130001033299
会社区分 メーカー
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25,321 /30,383社中

株式会社イー・スクエアの創業年
1999年

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株式会社イー・スクエアの位置情報

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