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洗浄装置のメーカー206社一覧や企業ランキングを掲載中！洗浄装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:株式会社ダン科学、2位:株式会社イー・スクエア、3位:OKIネクステック株式会社となっています。 洗浄装置の概要、用途、原理もチェック！
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
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2025年6月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社ダン科学 |
5.5%
|
| 2 | 株式会社イー・スクエア |
5.3%
|
| 3 | OKIネクステック株式会社 |
4.7%
|
| 4 | 株式会社ケンテック |
3.9%
|
| 5 | エンバイロ・ビジョン株式会社 |
2.6%
|
| 6 | 高橋金属株式会社 |
2.6%
|
| 7 | HUGパワー株式会社 |
2.4%
|
| 8 | 川崎重工業株式会社 |
2.1%
|
| 9 | 東光技研工業株式会社 |
1.8%
|
| 10 | 株式会社MCエバテック |
1.8%
|
45 点の製品がみつかりました
45 点の製品
イーアールエス株式会社
420人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
4.0 会社レビュー
100.0% 返答率
53.7時間 返答時間
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610人以上が見ています
100.0% 返答率
43.0時間 返答時間
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4種類の品番
株式会社丸山製作所
260人以上が見ています
100.0% 返答率
43.0時間 返答時間
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株式会社丸山製作所
640人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
43.0時間 返答時間
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10種類の品番
株式会社丸山製作所
280人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
100.0% 返答率
43.0時間 返答時間
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株式会社丸山製作所
710人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
100.0% 返答率
43.0時間 返答時間
※他にも品番がございます。
10種類の品番
株式会社エフティ・ファインテックプロダクト
400人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
16.6時間 返答時間
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3種類の品番
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250人以上が見ています
最新の閲覧: 4時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
18.1時間 返答時間
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250人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
55.6時間 返答時間
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株式会社イツミ製作所
150人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
55.6時間 返答時間
株式会社岡常歯車製作所
220人以上が見ています
最新の閲覧: 2時間前
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
43.5時間 返答時間
■特徴 ・水洗い、脱水、乾燥、掃除機機能、すべてを1台に集約 ・バキューム乾燥機能搭載 ・切替ハンドルにより掃除機としても使用可能 ...
株式会社櫻川ポンプ製作所
170人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
8.9時間 返答時間
水中ポンプを使用した自動のクローラー洗浄装置です。自動運転でスタートすれば、放水しながらノズルがスイングしてクローラー全体を洗...
進和工業株式会社
80人以上が見ています
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
31.5時間 返答時間
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30人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
100.0% 返答率
77.3時間 返答時間
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チヨダエレクトリック株式会社
10人以上が見ています
100.0% 返答率
55.9時間 返答時間
■概要 低周波、中間周波、二周波の3モードで脱脂からすすぎまで対応 ■用途 低周波帯の強い衝撃と中間周波帯の粒子除去、新液置換の特性...
株式会社テクノビジョン
30人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
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株式会社テクノビジョン
30人以上が見ています
■製品概要 全自動マスク洗浄装置「TWC-304A」は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する、最大14イ...
クロダ技研株式会社
20人以上が見ています
ライン型洗浄+ラベルはくり機は、ライン型にする事により、大量処理、高生産性を生み出します。独自技術の、高水圧はくりで、難しいシー...
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
具体的な洗浄装置の使用例は、次の通りです
洗浄装置は、汚れの種類、洗浄対象の大きさ、洗浄時間、洗浄精度などを考慮して選択します。また、洗浄方法や使用する洗浄剤、乾燥方法なども重要です。
半導体プロセスの場合、洗浄の役割はウェーハの汚れを除去することです。汚れはパーティクルと呼ばれる目に見えない小さなごみ、人の垢・フケに含まれる有機物、汗などの油脂、工場内で使っている金属による汚染などがあります。
洗浄装置は、この汚れを溶剤や純水で洗い流します。洗浄後は、乾燥が必須です。ドライイン・ドライアウトと呼ばれ、必ず乾燥させてから、ウェーハを装置から出します。
洗浄装置で代表的な方式は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などです。
超音波洗浄装置は、薬液中に洗浄対象物を入れ、内部を超音波で振動されることで洗浄する装置です。洗浄対象により、振動の大きさや周波数を選定します。
スプレー洗浄装置は、ノズルから気体や液体を噴出させて対象物を洗浄する方式です。ハンディタイプの洗浄装置もあり、洗浄対象が大きくても対応が可能です。
ブラシ洗浄装置は、ブラシを用いて汚れを取り除いた後、溶液やスプレー洗浄を用いて汚れを洗い流す装置です。ブラシという物理的な方法で洗浄するため、取り除きにくい汚れを洗浄することができます。
ドライ洗浄装置は、UV (紫外線) を洗浄対象物に照射して、オゾンと活性酸素を生成し、活性酸素と汚れを反応させて、汚れを取り除く方式です。半導体やディスプレイの製造現場で主に使用されます。
溶剤洗浄装置は、溶剤の溶解力を利用することにより、汚れを溶かして取り除く装置です。非常に危険な溶剤を使用する場合があるので、注意が必要です。
洗浄装置の基本的構成は、搬送系、処理槽、純水槽、乾燥ステージです。搬送系は対象物を搬入・搬出する装置で、処理槽の中で対象物を洗浄します。純水槽は対象物に付着した薬液を洗い流す槽、乾燥ステージは対象物を乾燥させる装置です。
1種類の処理液で洗浄できる汚れは1つが原則であり、複数の汚れを洗浄する場合は、複数の処理槽と純水槽が必要です。半導体の製造プロセスでは、複数のウェーハをまとめて処理するバッチ式と、ウェーハを1枚ずつ処理する枚葉式の装置が使われます。
バッチ式は、キャリアと呼ばれるケースにウェーハをまとめて入れ、キャリア毎処理層に入れて洗浄します。また、枚葉式は、ウェーハを1枚ずつ回転させながら、スプレー式の洗浄を行います。
半導体の洗浄は、複数の処理液を使用します。各処理液で除去可能な汚れが異なります。各処理の後に純水で洗い流しを行います。
最後にウェーハを純水で洗い流して、乾燥工程を行います。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf/-char/ja
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_95/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal1888/85/924/85_924_1595/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf
