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洗浄装置のメーカー206社一覧や企業ランキングを掲載中！洗浄装置関連企業の2025年6月注目ランキングは1位:株式会社ダン科学、2位:株式会社イー・スクエア、3位:OKIネクステック株式会社となっています。 洗浄装置の概要、用途、原理もチェック！
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
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2025年6月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社ダン科学 |
5.5%
|
| 2 | 株式会社イー・スクエア |
5.3%
|
| 3 | OKIネクステック株式会社 |
4.7%
|
| 4 | 株式会社ケンテック |
3.9%
|
| 5 | エンバイロ・ビジョン株式会社 |
2.6%
|
| 6 | 高橋金属株式会社 |
2.6%
|
| 7 | HUGパワー株式会社 |
2.4%
|
| 8 | 川崎重工業株式会社 |
2.1%
|
| 9 | 東光技研工業株式会社 |
1.8%
|
| 10 | 株式会社MCエバテック |
1.8%
|
8 点の製品がみつかりました
8 点の製品
三田理化工業株式会社
350人以上が見ています
100.0% 返答率
84.2時間 返答時間
■概要 クリーンエア混合噴射の特殊ノズルによる精密洗浄を実現。小ロット･多品種少量を扱うラボ用に最適です。小ロットの高速洗浄に対応...
三國機械工業株式会社
150人以上が見ています
100.0% 返答率
36.7時間 返答時間
スピーディーに効率よく、洗浄からエアーブローまでを行うことが可能。省スペース・省人化は、どの作業環境でも抱える課題。森合精機の...
NCC株式会社
160人以上が見ています
最新の閲覧: 6時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
17.9時間 返答時間
概要 ■厳しいコンタミ除去要求に応える、新しい高品質洗浄装置 特許出願中 (ハイブリットコンデンサ) のオリジナル洗浄機『ACSysシリー...
株式会社マツケン
110人以上が見ています
最新の閲覧: 22時間前
100.0% 返答率
54.5時間 返答時間
■洗浄装置 洗浄装置は、水系シャワー式をはじめ、水系・炭化水素系超音波洗浄装置や航空機部品用のエッチング装置、また、ご要望に応じ...
東光技研工業株式会社
200人以上が見ています
最新の閲覧: 20時間前
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
29.9時間 返答時間
■特長 インジェクターやキャブレター等の形状の安定しない部品をPPロボで搬送。全自動洗浄乾燥装置です。
東光技研工業株式会社
210人以上が見ています
返信の比較的早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
29.9時間 返答時間
■特長 最高にコンパクト (上段→超音波、中断→シャワー、下段→エアブロー)
株式会社石井表記
220人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の早い企業
100.0% 返答率
6.4時間 返答時間
■概要 搬送構造を従来のバンコード式からローラ搬送に変更し、薄板から極厚板まで安定した搬送、処理が可能になりました。振動子からパ...
ソマックス株式会社
410人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信のとても早い企業
100.0% 返答率
2.1時間 返答時間
■輝度の回復や歩留りの改善効果 微細なパターンが転写されない、輝度損失による明るさのムラ、光学部材用金型に汚れが残り成形不良が発...
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
具体的な洗浄装置の使用例は、次の通りです
洗浄装置は、汚れの種類、洗浄対象の大きさ、洗浄時間、洗浄精度などを考慮して選択します。また、洗浄方法や使用する洗浄剤、乾燥方法なども重要です。
半導体プロセスの場合、洗浄の役割はウェーハの汚れを除去することです。汚れはパーティクルと呼ばれる目に見えない小さなごみ、人の垢・フケに含まれる有機物、汗などの油脂、工場内で使っている金属による汚染などがあります。
洗浄装置は、この汚れを溶剤や純水で洗い流します。洗浄後は、乾燥が必須です。ドライイン・ドライアウトと呼ばれ、必ず乾燥させてから、ウェーハを装置から出します。
洗浄装置で代表的な方式は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などです。
超音波洗浄装置は、薬液中に洗浄対象物を入れ、内部を超音波で振動されることで洗浄する装置です。洗浄対象により、振動の大きさや周波数を選定します。
スプレー洗浄装置は、ノズルから気体や液体を噴出させて対象物を洗浄する方式です。ハンディタイプの洗浄装置もあり、洗浄対象が大きくても対応が可能です。
ブラシ洗浄装置は、ブラシを用いて汚れを取り除いた後、溶液やスプレー洗浄を用いて汚れを洗い流す装置です。ブラシという物理的な方法で洗浄するため、取り除きにくい汚れを洗浄することができます。
ドライ洗浄装置は、UV (紫外線) を洗浄対象物に照射して、オゾンと活性酸素を生成し、活性酸素と汚れを反応させて、汚れを取り除く方式です。半導体やディスプレイの製造現場で主に使用されます。
溶剤洗浄装置は、溶剤の溶解力を利用することにより、汚れを溶かして取り除く装置です。非常に危険な溶剤を使用する場合があるので、注意が必要です。
洗浄装置の基本的構成は、搬送系、処理槽、純水槽、乾燥ステージです。搬送系は対象物を搬入・搬出する装置で、処理槽の中で対象物を洗浄します。純水槽は対象物に付着した薬液を洗い流す槽、乾燥ステージは対象物を乾燥させる装置です。
1種類の処理液で洗浄できる汚れは1つが原則であり、複数の汚れを洗浄する場合は、複数の処理槽と純水槽が必要です。半導体の製造プロセスでは、複数のウェーハをまとめて処理するバッチ式と、ウェーハを1枚ずつ処理する枚葉式の装置が使われます。
バッチ式は、キャリアと呼ばれるケースにウェーハをまとめて入れ、キャリア毎処理層に入れて洗浄します。また、枚葉式は、ウェーハを1枚ずつ回転させながら、スプレー式の洗浄を行います。
半導体の洗浄は、複数の処理液を使用します。各処理液で除去可能な汚れが異なります。各処理の後に純水で洗い流しを行います。
最後にウェーハを純水で洗い流して、乾燥工程を行います。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf/-char/ja
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_95/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal1888/85/924/85_924_1595/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf
