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洗浄装置のメーカー205社一覧や企業ランキングを掲載中！洗浄装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:OKIネクステック株式会社、2位:株式会社イー・スクエア、3位:HUGパワー株式会社となっています。 洗浄装置の概要、用途、原理もチェック！
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
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2025年8月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | OKIネクステック株式会社 |
6.6%
|
| 2 | 株式会社イー・スクエア |
5.2%
|
| 3 | HUGパワー株式会社 |
4.3%
|
| 4 | 株式会社ダン科学 |
3.8%
|
| 5 | エンバイロ・ビジョン株式会社 |
2.8%
|
| 6 | 東光技研工業株式会社 |
2.8%
|
| 7 | 有限会社アイエムエイ |
2.8%
|
| 8 | 株式会社ケンテック |
1.9%
|
| 9 | 株式会社パートナーズコーポレーション |
1.9%
|
| 10 | 株式会社ユニカル |
1.9%
|
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12 点の製品
株式会社岡常歯車製作所
260人以上が見ています
最新の閲覧: 19時間前
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100.0% 返答率
48.5時間 返答時間
■特徴 ・2WAY洗浄機発売。トラック業界、SS業界に最適 ・2WAY (Wポンプ、モーター) だから、車に最適な洗浄が可能 ・洗車時間、料金設定...
東光技研工業株式会社
340人以上が見ています
最新の閲覧: 8時間前
返信の比較的早い企業
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29.9時間 返答時間
■特長 0.3ミクロン迄の汚れを除去します。樹脂ケースの乾燥も100%満足できます。
東光技研工業株式会社
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■特長 AGV搬出入の全自動ラインです。滅菌 (HACCP) 対応です。構造・取扱いがシンプルです。
東光技研工業株式会社
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■特長 3列式の全自動ラインです。3～6ヶ月間に汚して乾燥させたものを洗浄します。リサイクル容器です。
東光技研工業株式会社
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返信の比較的早い企業
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■特長 処理能力がアップ。ワークが奇麗に真っ白。半自動方式。
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■特長 顔料色替え時の混合機内を簡単洗浄。
東光技研工業株式会社
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■特長 飲料通い箱を高速で洗浄します。通い箱内のゴミを反転機で落下させ取除きます。
東光技研工業株式会社
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■特長 作業者がローリー車に昇降ノズルをセット→スタートON→自動洗浄→完了のシンプルシステムです。廃水処理も全て行うクリーンな設備で...
東光技研工業株式会社
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■特長 全自動のインライン洗浄機です。前工程加工ライン＝後工程検査分別機。トラブルがないのが最大の長所です。
東光技研工業株式会社
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■特長 10年間も汚した消費電力計のガラスケースも高圧で洗浄。リサイクル使用するため、カーボン状の汚しとラベルも剥離します。
東光技研工業株式会社
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■特長 自動車工場の鋳造プロセス金型を鉄粉と脱脂を行います。洗浄液は地下ピット槽で切粉と油の回収を行い一液で3～6ヶ月使用できる合...
東光技研工業株式会社
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■特長 機関車のオーバーホール部品 (重量物) のカーボン化した汚しを高圧洗剤で除去します。洗浄剤はリサイクル使用できます。
洗浄装置 (英：cleaning system) とは、化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着している不要なものを取り除く装置です。
精密機器や半導体、ディスプレイなどの製造過程に使用されます。洗浄装置を適切に使用しなければ、不良品や歩留りが多発する可能性があります
洗浄の方法は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などさまざまです。半導体の製造の場合、製造工程数は500以上ありますが、その中で洗浄工程が30%～40%を占めると言われています。
具体的な洗浄装置の使用例は、次の通りです
洗浄装置は、汚れの種類、洗浄対象の大きさ、洗浄時間、洗浄精度などを考慮して選択します。また、洗浄方法や使用する洗浄剤、乾燥方法なども重要です。
半導体プロセスの場合、洗浄の役割はウェーハの汚れを除去することです。汚れはパーティクルと呼ばれる目に見えない小さなごみ、人の垢・フケに含まれる有機物、汗などの油脂、工場内で使っている金属による汚染などがあります。
洗浄装置は、この汚れを溶剤や純水で洗い流します。洗浄後は、乾燥が必須です。ドライイン・ドライアウトと呼ばれ、必ず乾燥させてから、ウェーハを装置から出します。
洗浄装置で代表的な方式は、超音波洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、ドライ洗浄、溶剤洗浄などです。
超音波洗浄装置は、薬液中に洗浄対象物を入れ、内部を超音波で振動されることで洗浄する装置です。洗浄対象により、振動の大きさや周波数を選定します。
スプレー洗浄装置は、ノズルから気体や液体を噴出させて対象物を洗浄する方式です。ハンディタイプの洗浄装置もあり、洗浄対象が大きくても対応が可能です。
ブラシ洗浄装置は、ブラシを用いて汚れを取り除いた後、溶液やスプレー洗浄を用いて汚れを洗い流す装置です。ブラシという物理的な方法で洗浄するため、取り除きにくい汚れを洗浄することができます。
ドライ洗浄装置は、UV (紫外線) を洗浄対象物に照射して、オゾンと活性酸素を生成し、活性酸素と汚れを反応させて、汚れを取り除く方式です。半導体やディスプレイの製造現場で主に使用されます。
溶剤洗浄装置は、溶剤の溶解力を利用することにより、汚れを溶かして取り除く装置です。非常に危険な溶剤を使用する場合があるので、注意が必要です。
洗浄装置の基本的構成は、搬送系、処理槽、純水槽、乾燥ステージです。搬送系は対象物を搬入・搬出する装置で、処理槽の中で対象物を洗浄します。純水槽は対象物に付着した薬液を洗い流す槽、乾燥ステージは対象物を乾燥させる装置です。
1種類の処理液で洗浄できる汚れは1つが原則であり、複数の汚れを洗浄する場合は、複数の処理槽と純水槽が必要です。半導体の製造プロセスでは、複数のウェーハをまとめて処理するバッチ式と、ウェーハを1枚ずつ処理する枚葉式の装置が使われます。
バッチ式は、キャリアと呼ばれるケースにウェーハをまとめて入れ、キャリア毎処理層に入れて洗浄します。また、枚葉式は、ウェーハを1枚ずつ回転させながら、スプレー式の洗浄を行います。
半導体の洗浄は、複数の処理液を使用します。各処理液で除去可能な汚れが異なります。各処理の後に純水で洗い流しを行います。
最後にウェーハを純水で洗い流して、乾燥工程を行います。
参考文献
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf/-char/ja
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_95/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejjournal1888/85/924/85_924_1595/_pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/60/2/60_2_103/_pdf
