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真空用チューブのメーカー13社一覧や企業ランキングを掲載中！真空用チューブ関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:昌栄産業株式会社、2位:株式会社日本ピスコとなっています。 真空用チューブの概要、用途、原理もチェック！
真空用チューブとは、高真空環境で使用される特殊なチューブです。
真空用途では、チューブ内の気体がほとんどないか、完全に排気された状態で動作する必要があります。これにより、気体の影響を排除し、さまざまな高度な科学研究や産業応用を実現することが可能です。
10 点の製品がみつかりました
10 点の製品
昌栄産業株式会社
450人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
4.9時間 返答時間
柔軟で自在に曲げることのできるフレキシブルチューブ ( フレキシブルホース ) です。 水道、ガスなどのライフラインから、工業用配管...
株式会社エノア
580人以上が見ています
最新の閲覧: 3時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
17.4時間 返答時間
■特徴 ・【Enoah-VIFT】 熱損失が従来保温管の 1/10 程度 熱伝導率λ 0.003W/m.k 程度 ・コンパクト 配管施⼯外径が小さく出来る。 ・優...
株式会社エノア
330人以上が見ています
最新の閲覧: 7時間前
返信の比較的早い企業
100.0% 返答率
17.4時間 返答時間
■特徴 ・Enoah-VIFT 熱損失が従来保温管の 1/10 程度 熱伝導率λ 0.003W/m.k 程度 ・コンパクト 配管施⼯外径が小さく出来る。 ・優れた...
株式会社日本ピスコ
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返信の比較的早い企業
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22.5時間 返答時間
カラー：1色、サイズ：5種。 ■特長 ・柔軟性に優れ、揺動部の配管に最適。 ・小さな曲半径を必要とするコンパクト配管に最適。 ・カッ...
大阪ラセン管工業株式会社
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100.0% 返答率
2.5時間 返答時間
近年、半導体における高集積化は著しく、これに伴い半導体製造装置のクリーン化の要求も非常に厳しくなってきております。特にプロセス...
大阪ラセン管工業株式会社
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2.5時間 返答時間
■特徴 ・温度分布が均一で、安定した保温、加熱が得られます ・内管のチューブ及びパイプエンドはSUS316L製で、優れた耐熱性と耐食性に...
株式会社柳生商会
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返信の早い企業
4.5 会社レビュー
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8.0時間 返答時間
■特徴 ・左右逆回転する事で、ホースの口径が「拡大／縮小」比150%で変化します。 ・送排気のダクト用に適しています。
株式会社柳生商会
360人以上が見ています
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返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
8.0時間 返答時間
■特徴 ・透明タイプで内部の確認ができます。 ・集塵、粉体・粒体・気体の輸送、設備の送・排気用に適しています。 ※販売は1m単位です。
株式会社柳生商会
350人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
返信の早い企業
4.5 会社レビュー
100.0% 返答率
8.0時間 返答時間
■特徴 ・曲げやすく軽量なので作業の省力化が図れます。 ・切断、取り付けが容易です。 ・室内の送・排気用、工場設備の送・排気、集塵...
岡本機工株式会社
20人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
返信のとても早い企業
5.0 会社レビュー
100.0% 返答率
3.4時間 返答時間
柔軟性に優れ、揺動部の配管に最適。 特長 ■小さな曲半径を必要とするコンパクト配管に最適。 ■カットマークを約500mm間隔で表示。 チ...
真空用チューブとは、高真空環境で使用される特殊なチューブです。
真空用途では、チューブ内の気体がほとんどないか、完全に排気された状態で動作する必要があります。これにより、気体の影響を排除し、さまざまな高度な科学研究や産業応用を実現することが可能です。
真空用チューブは、半導体産業において欠かせない要素です。半導体の製造プロセスでは高度な真空環境が必要であり、エッチングや蒸着といった工程において真空用チューブが使用されます。これにより、高精度な半導体デバイスの製造が可能となります。
宇宙空間は極めて低圧の真空状態であるため、宇宙探査機器や人工衛星において真空用チューブが活用されます。これらの機器では、高真空下での信頼性と耐久性が求められ、真空用チューブが信頼性の高い動作をサポートします。
科学研究や産業分野において、微細な測定や評価が必要とされる場合があります。真空用チューブは精密な測定装置や試験装置において、気体の影響を排除して高精度な測定を行うのに適しています。
真空用チューブは、冷凍や冷却のプロセスにも利用可能です。真空環境下では熱の伝導が低下し、素材や試料の冷却効果が向上します。真空用チューブを用いることで、より効率的な冷却が可能となります。
質量分析器は、物質の成分や組成を調べる際に用いられる重要な装置です。真空用チューブは、サンプルを真空状態に保持するために使用され、高精度な質量分析を実現します。
レーザー装置では、真空状態下で光の増幅や誘導放出が行われます。真空用チューブはレーザーシステムにおいて光の伝播を補助し、レーザーの性能向上に寄与します。
真空用チューブは、内部の気体を排除して高真空環境を実現することが重要です。通常、真空用チューブの内部には特殊なポンプが設置されており、これによって気体が吸い出されて真空が生成されます。気体の排除により、真空用チューブ内の圧力が極めて低くなり、真空状態が形成されます。
真空用チューブは非常に気密性が要求されるため、リーク (漏れ) を防止することが重要です。チューブの接合部やパッキンなど、構造全体が気密性を持っていることが必要です。リークが発生すると、真空状態の維持が困難となり、装置の正確な動作が妨げられます。
真空用チューブは、高真空環境下で熱の伝導が低下する特性があります。通常の大気圧下では熱は空気を介して伝わりますが、高真空状態では気体の存在が少ないため、熱の伝導が抑制されます。
これにより、真空用チューブ内の物体や試料の熱特性が変化し、熱の効率的な制御が可能です。
一部の真空用チューブは、加熱および蒸発の原理を利用して動作します。内部に設置された加熱器によって試料や材料が加熱され、それによって気体や蒸気が生成されます。
このプロセスによって、真空用チューブ内の圧力や成分を制御することが可能です。
一部の実験やプロセスにおいて、特定の気体を真空用チューブ内に導入する必要があります。この際には、制御されたガス導入装置が使用されます。
特定の気体を正確な量で導入することで、試料の反応や挙動を観察し、研究や製造プロセスを進めることが可能です。
エジェクターチューブは、高速の気流を用いて真空を生成するタイプのチューブです。内部にはノズルがあり、圧縮空気や蒸気をノズルによって高速に排出することで、周囲の気体を吸い込み、真空状態を形成します。
構造がシンプルで、動作に電力を必要としないため、省エネルギーな真空生成が可能です。主に排気装置やエアポンプなどに利用されます。
ディフュージョンポンプは、分子の拡散を利用して気体を排除するタイプのチューブです。内部にはヒーターや冷却器があり、気体分子が衝突して壁に吸着・脱着することで、気体が排除されます。
高真空領域で使用され、高い真空度を実現するのに適しています。主に半導体製造や真空メッキなどに利用できるタイプです。
ターボ分子ポンプは、高速回転するターボ分子を用いて気体を排除するタイプのチューブです。分子がターボ分子の回転によって排除されることで、高真空領域を形成します。
非常に高い真空度を実現できるため、高度な実験や加工に用いられます。特に半導体製造や宇宙航空産業で重要な役割を果たす製品です。
イオンポンプは、イオン化した気体を電場によって排除するタイプのチューブです。内部には電極があり、イオン化した気体が電場によって引き寄せられてチューブから排出されます。
高い真空度を実現できるうえ、希ガスや水蒸気の除去にも効果的です。主に真空冷凍機や電子顕微鏡などで使用されます。
