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イオン注入装置 メーカー7社

イオン注入装置のメーカー7社一覧企業ランキングを掲載中!イオン注入装置関連企業の2025年8月注目ランキングは1位:住友重機械工業株式会社、2位:Applied Materials, Inc.、3位:日新電機株式会社となっています。 イオン注入装置の概要、用途、原理もチェック!

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7イオン注入装置メーカー

イオン注入装置 2025年8月のメーカーランキング


37 点の製品がみつかりました

37 点の製品

1

株式会社プラズマイオンアシスト

プラズマイオン注入成膜法による“各種機能性DLC ” Intelligent DLC

1050人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の早い企業

100.0% 返答率

7.4時間 返答時間

・常温からの成膜法でアルミ等の非鉄金属を始め、ゴム等の有機物まで殆どの素材に DLC コーディングが可能です ・各種機能性 DLC を個別...

8種類の品番


2

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

優れた均質性&最大の柔軟性 Ionfab 300 IBE

580人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

■概要 優れた均質性を持ちながら最大の柔軟性を有し、広範な用途分野に適しています。当社のシステムには、大気装入、単一基板真空予備...


3

フューテックス株式会社

FIBイオン銃用+30KV高圧電源・標準タイプ IB303XS

570人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

14.4時間 返答時間

■構成 ・加速電源 ・フィラメント電源 ・サプレッサ電源 ・エキストラクタ電源 ■オプション ・コンデンサ・レンズ電源 ・オブジェクト...


4

フューテックス株式会社

FIBイオン銃用+30KV高圧電源 IB303XP

500人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

14.4時間 返答時間

■構成 ・加速電源 ・フィラメント電源 ・サプレッサ電源 ・エキストラクタ電源 ■オプション ・コンデンサ・レンズ電源 ・オブジェクト...


5

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

イオンビーム技術は単一ツールで最大限のシステム活用が可能 Ionfab 300 IBD

420人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

返信の比較的早い企業

5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

23.1時間 返答時間

■概要 高品質で高密度かつ滑らかな表面を持つ、薄膜デポジションを実現することで、選んでいただいています。 イオンビーム技術は、単...


6

北野精機株式会社

ソース 簡易型イオン銃 IS40C1

370人以上が見ています

最新の閲覧: 11時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■概要 40C1イオン銃は試料表面をクリーニングするためのコンパクトで簡便なイオン銃です。取付フランジは、DN40CF (外径70mm) で容易に...


7

アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-30

350人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。 ■用途 パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス ■特長 ・枚葉式 ・薄Wafe...


8

アルバック販売株式会社

SiC用高温イオン注入装置 IH-860DSIC

350人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。 ■用途 SiC向けイオン注入装置 ■特長 ・自動連続高温処理注入が可...


9

アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-400

320人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 Max2,400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。 ■用途 パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス ■特...


10

北野精機株式会社

ソース 走査型イオン銃 IS40E1

320人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.9時間 返答時間

■概要 40E1イオン銃は、2段の出射レンズを採用した収束型イオン銃です。2段の出射レンズによって、スポットサイズと加速電圧 (0.15eV~5...


11

アルバック販売株式会社

研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500

280人以上が見ています

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最...


12

アルバック販売株式会社

中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260

270人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしていま...


13

アルバック販売株式会社

分析・計測機器 表面分析装置 イオン銃/電子分光器 (CMA) FIG-5 パッケージ

260人以上が見ています

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 本イオン銃は、ICF70取付のコンパクトなイオン銃でありながら、最大10 μAのビーム電流、150 μm以下のビーム径、2 mA/cm2以上の最...


14

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社

半導体材料 イオン注入材料

240人以上が見ています

最新の閲覧: 4時間前

100.0% 返答率

63.2時間 返答時間

半導体工程における「不純物添加」に使用される、イオン注入材料をご提供いたします。当社で取り扱っているイオン注入材料はガス材料と...


15

株式会社ユニソク

SPMユニット製品 2kVスパッタイオン銃 IB-201

240人以上が見ています

最新の閲覧: 16時間前

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

22.9時間 返答時間

超高真空中で試料表面のクリーニングを目的とした「アルゴンスパッタイオン銃」です。


16

フジ・インバック株式会社

ターボ分子ポンプ (ハイブリッドベアリング) HiPace® ITシリーズ (イオン注入装置向けモデル)

210人以上が見ています

100.0% 返答率

39.6時間 返答時間

■アプリケーション ・イオン注入 ■特長 ・軽ガス排気に特化 ・ニッケルコートローターにより高耐性を実現 ・温度管理システム※により結...


17

アルバック販売株式会社

分析・計測機器 表面分析装置 イオン銃/電子分光器 (CMA) USG-3 パッケージ

200人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 ・低価格 ・2kVまで加速可能 ・ポートアライナー付 ・ご希望により取り付けフランジからイオン銃先端までの長さを調整 (オプショ...


18

アルバック販売株式会社

スパッタイオンポンプ コントローラ GST-07L Ver.B

110人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

4.5 会社レビュー

100.0% 返答率

175.8時間 返答時間

■概要 GST-07L-Bは、ULVACがこれまで培ってきた超高真空分野での豊富な技術力と実績により高機能・高信頼性を実現したスパッタイオンポ...


19

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY

50人以上が見ています

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 業界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置 特長 ■業界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置 ・高生産性を...


20

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED3000AHシリーズ

50人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 ナノ・テクノロジー・ノードに対応した高い生産性とプロセス信頼性を有した豊富な実績の中電流イオン注入装置 特長 ■最適なライ...


21

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II

40人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 高温搬送の信頼性とスループットをIMPHEATからさらに進化させた高温イオン注入装置 特長 ■業界最高の生産性を持つ高温イオン注入...


22

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ FPD製造用イオン注入装置 iG4

40人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 低温ポリシリコン薄膜トランジスタに代表される高精細ディスプレイ駆動用薄膜トランジスタ製造における電気特性制御プロセスに不...


23

株式会社サイエンスラボラトリーズ

真空関連機器 電子銃・イオン銃 低エネルギー電子銃

40人以上が見ています

返信の比較的早い企業

100.0% 返答率

24.2時間 返答時間

■Kimball Physics社製「電子銃・イオン銃システム」 世界中で使用されているKimball Physics社製電子銃・イオン銃は低エネルギーから高...


24

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ FPD製造用イオン注入装置 iG6 Ver.2

40人以上が見ています

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 低温ポリシリコン薄膜トランジスタに代表される高精細ディスプレイ駆動用薄膜トランジスタ製造における電気特性制御プロセスに不...


25 新着

株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準機仕様 PBII―R1000

30人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

■概要 取り扱いが容易なサイズの為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。


26

日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED9600Aシリーズ

30人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

100.0% 返答率

48.3時間 返答時間

■概要 ナノ・テクノロジー・ノードに対応した高い生産性とプロセス信頼性を有した豊富な実績の中電流イオン注入装置 特長 ■最適なライ...


27 新着

株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450

30人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


28 新着

株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■概要 真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能です。重量物運搬用に自動搬送台車もオプション...


29 新着

株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■概要 サイズがコンパクトの為、試験片作製や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮...


30 新着

株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 標準大型機仕様 PBII―R1500

20人以上が見ています

最新の閲覧: 1日前

■概要 R1000の約4倍の容積を持つ大型機です。R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能です。


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