イオン注入装置 SOPHI-30-SOPHI-30
イオン注入装置 SOPHI-30-アルバック販売株式会社

イオン注入装置 SOPHI-30
アルバック販売株式会社

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この製品について

■概要

低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。

■用途

パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス

■特長

・枚葉式 ・薄Wafer対応

■非質量分離機 *非質量分離機の対比メリット

1) 低加速・高濃度対応のハイスループットイオン注入装置 2) 従来より約半額の低価格 3) 装置占有面積が従来より1/3のコンパクト設計

  • シリーズ

    イオン注入装置 SOPHI-30

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イオン注入装置 SOPHI-30 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ
イオン注入装置 SOPHI-30-品番-SOPHI-30

SOPHI-30

要見積もり Max200mm

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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