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低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD-EPD-1350
低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD-株式会社シンクロン

低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD
株式会社シンクロン



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この製品について

■用途

光学

■概要

TiO2/SiO2282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。

■特徴

・低散乱 (低Haze) な超多層膜を実現 ・複数の扉によりメンテナンス性を向上

  • シリーズ

    低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD

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低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ホルダ 膜厚計 蒸発源 アシスト 排気システム
低散乱な超多層膜形成のための専用機 誘電体超多層膜用装置 EPD-品番-EPD-1350

EPD-1350

要見積もり

Φ1,200mm

光学式膜厚計・水晶式膜厚計 (6点ロータリーセンサ)

EB x2

RFイオン源

あらびきユニット・ターボ分子ポンプ・マイスナトラップ

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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