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返答率
100.0%
返答時間
29.2時間
到達真空度
<5x10-7mbar
基板サイズ
最大 6inch
ガス系統
3 系統 (標準) Ar, O2, N2
APC 制御
PIDループ自動圧力制御 (又は、手動)
真空ポンプ
ターボ分子 , ロータリー (又はスクロール)
膜厚センサ
水晶振動子膜厚センサー 最大 3
基板回転
モーター駆動 30 段階速度可変式
上下昇降
手動、又はモーター駆動式
シャッター
基板シャッター , ソースシャッター
抵抗加熱蒸着
TE1 ボックス型蒸着源 最大 3 源
有機蒸着
LTE-1 型有機蒸着源 (1cc) 最大 2 源
マグネトロンスパッタリング
2/3inch カソード x 最大 3 源
プラズマエッチング
RF150W 13.56MHz, DC850W PSU
アニール
2/3inch 加熱ステージ Max500℃
型番
MiniLab 026取扱企業
テルモセラ・ジャパン株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品93点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | 基板サイズ | ガス系統 | APC 制御 | 真空ポンプ | 膜厚センサ | 基板回転 | 上下昇降 | シャッター | 抵抗加熱蒸着 | 有機蒸着 | マグネトロンスパッタリング | プラズマエッチング | アニール | オプション |
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要見積もり | <5x10-7mbar | 最大 6inch | 3 系統 (標準) Ar, O2, N2 | PIDループ自動圧力制御 (又は、手動) | ターボ分子 , ロータリー (又はスクロール) | 水晶振動子膜厚センサー 最大 3 | モーター駆動 30 段階速度可変式 | 手動、又はモーター駆動式 | 基板シャッター , ソースシャッター | TE1 ボックス型蒸着源 最大 3 源 | LTE-1 型有機蒸着源 (1cc) 最大 2 源 | 2/3inch カソード x 最大 3 源 | RF150W 13.56MHz, DC850W PSU | 2/3inch 加熱ステージ Max500℃ |
多元同時成膜 |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
排気系主ポンプがターボ分子ポンプの製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
