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【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB-テルモセラ・ジャパン株式会社

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返答率

100.0%

返答時間

29.2時間

全型番で同じ値の指標

標準外形寸法

1,500 (W) ×750 (D) ×900 (H) mm (*MiniLab装置部)

グローブボート

3ポート (標準) 耐腐食性強化アルミニウム 内径Φ200mm

グローブ

プチルゴム製グローブ

アンテチャンバー

oリングシール, 内径Φ370×L600mm, 着脱スライドトレー

ミニアンテチャンバー

oリングシール, 内径Φ150×L300 mm

耐衝撃性, 耐腐食性ガラス採用

ボックス内棚

2段式×2箇所, ボックス背面パネル設置

リークレート

<0.001 Vol% / hr (ISO 10648-2)

ガス循環フィルター

HEPA H13

ソレノイドバージバルブ

クイックバージバルブ

真空ポンプ

ターボ分子 (標準) ,or クライオポンプ+ロータリーポンプ

システムコントローラー

7"高解像度タッチパネルスクリーン PLC自動制御システム

バージバルブ

N2 (Ar) 用

背面フィールドスルーボード

4箇所 (内1箇所は電源用) KF-40キャップ付属

設置

高さ調整式キャスター, レベルジャッキ (オプション)

精製装置

ガス循環精製装置, 酸素温度計・水分濃度計付属

この製品について

■概要

本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパッタ・真空蒸着などの成膜装置とグローブボックス設置エリアを一体化した、ラボ内の限られたスペースを有効活用できる省スペース装置です。スピンドライヤー、ホットプレートなどへの受け渡しなど、試料を外気に晒すことなくグローブボックス内で一連の作業をシームレスに行うことができます。

■用途

OLED (有機 EL) , OPV (有機薄膜太陽電池) , OTFT (有機薄膜太陽電池) , 又 , グラフェン , TMD (遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料) などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーを GB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。

■特徴

・省スペース:グローブボックス本体寸法内に成膜装置が収まります。 ・成膜後の試料を大気に露出せず、GBの管理雰囲気内で試料を取扱う事ができる。 ・同様の MiniLabチャンバーを収納した GBをパスボックスで連結し、連続したシームレスな作業が可能。

  • 型番

    MiniLab-026-GB

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【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB MiniLab-026-GBの性能表

商品画像 価格 (税抜) 標準外形寸法 グローブボート グローブ アンテチャンバー ミニアンテチャンバー ボックス内棚 リークレート ガス循環フィルター ソレノイドバージバルブ 真空ポンプ システムコントローラー バージバルブ 背面フィールドスルーボード 設置 精製装置
【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB-品番-MiniLab-026-GB 要見積もり 1,500 (W) ×750 (D) ×900 (H) mm (*MiniLab装置部) 3ポート (標準) 耐腐食性強化アルミニウム 内径Φ200mm プチルゴム製グローブ oリングシール, 内径Φ370×L600mm, 着脱スライドトレー oリングシール, 内径Φ150×L300 mm 耐衝撃性, 耐腐食性ガラス採用 2段式×2箇所, ボックス背面パネル設置 <0.001 Vol% / hr (ISO 10648-2) HEPA H13 クイックバージバルブ ターボ分子 (標準) ,or クライオポンプ+ロータリーポンプ 7"高解像度タッチパネルスクリーン PLC自動制御システム N2 (Ar) 用 4箇所 (内1箇所は電源用) KF-40キャップ付属 高さ調整式キャスター, レベルジャッキ (オプション) ガス循環精製装置, 酸素温度計・水分濃度計付属

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使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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  • 本社所在地: 東京都

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