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株式会社真空デバイスの取り扱い製品
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9 点の製品
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 電子顕微鏡向け全自動マグネトロンスパッタ装置 MSP-1S
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 FE-SEM 向けタングステンコーター MSP-20-TK
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
真空蒸着装置 TMP 排気・清浄真空 VE-2030
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真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
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スパッタ装置 小型マグネトロンスパッタ装置 MSP－mini
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
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真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013
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真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 多目的簡易操作型マグネトロンスパッタ成膜装置 MSP-40T
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-UM
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 4インチターゲット全自動機能付き貴金属コーター MSP-20-MT
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
株式会社真空デバイス
スパッタ装置 8インチターゲット貴金属コーター MSP-8in
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ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界によりイオンをターゲットに衝突させて金属分子を放出...
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真空デバイスのカタログ 3件
ＶＥ－２０１３
カタログ概要
★ VE-2013はVE-2030（弊社製）のコンセプトを継承した簡易型真空蒸着装置です。★ TMPを筐体内に内蔵したコンパクトな筐体を実現。デスクトップ型なので設置場...
2023年7月12日
ＨＰＣ－２０
カタログ概要
★ ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法（特許）を採用、試料にやさしく金属オスミウムをコーティングします。★ ホローカソード円筒内全体にオスミウム...
2023年7月12日
ＶＣ－３００
カタログ概要
● 真空蒸着装置に代わる電子顕微鏡のためのカーボンコーターです。 ● 使用カーボンはφ0.5mmシャープペンシル芯タイプ専用です（SLC-30）。● 削る必要が無く、...
2023年7月12日
会社基本情報
| 郵便番号 | 〒311-4155 |
|---|---|
| 本社住所 | 茨城県水戸市飯島町1285-5 |
| 創業年 | 1985年 |
| 資本金 | 10,000,000円 |
| 従業員数 | 12人 |
| 法人番号 | 3050001002979 |
| 会社区分 | メーカー |
| リンク | 株式会社真空デバイス ホームページ |
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