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薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置-大型EB蒸着装置
薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置-北野精機株式会社

薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置
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この製品について

■特徴

本装置は電子ビーム (EB) を用いた高融点金属蒸着装置です。本装置には高い材料使用効率と高い膜特性を実現するために自転・公転型プラネタリーを使用しています。また大容量のハース (るつぼ) と最大出力30kWの電子銃を搭載することで数百μと厚い膜厚も高速に成膜していくことが可能です。 さらに、膜厚制御は高レート／高膜厚に適応した弊社独自の技術により水晶振動子による高精度測定を実現しています。

■装置構成

・φ800高真空チャンバー ・蒸着用電子銃 ・DP&RP排気ユニット ・クライオ冷却装置 ・冷却水循環装置 ・装置制御盤

  • シリーズ

    薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置

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薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達真空度 電子銃 基板加熱温度 プラネタリー 装置制御
薄膜作製装置 電子ビーム蒸着装置 大型EB蒸着装置-品番-大型EB蒸着装置

大型EB蒸着装置

要見積もり

≦1.0E-5Pa

最大出力30kW (15kW2A)

Max450℃

蒸着時に同一軌道上を周回し、かつ自転することによって均一性の高い成膜作業が可能になります

PLC (プログラマブルロジックコントローラー) での自動排気・自動立上げにより24時間全自動運転可能

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1000 1000 - 3000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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