薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置
北野精機株式会社
この製品について
■仕様
・真空計を除く全ての真空構成部品は200℃以上での繰り返しベーキングが可能です ・超高真空対応チャンバーとし、Heリークディテクターによるリーク量が1.33×10^-11Pa・m3/sec以下です ・2インチの基板に対応する基板ホルダー (Mo製) を使用することができます ・基板ホルダーはオプションである弊社製トランスファーロッドにより試料ステージ上のホルダー固定機構まで手動で安全に搬送することができます ・架台はキャスター及びレベル調整機能付きです-
シリーズ
薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置
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取扱企業
北野精機株式会社
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カテゴリ
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薄膜作製装置 4元マグネトロンスパッタリング装置 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 超高真空チャンバー 形状 | 超高真空チャンバー ポート | 超高真空チャンバー 材質 | 超高真空チャンバー 表面処理 | 超高真空チャンバー 高温処理 | 超高真空チャンバー リーク量 | 超高真空チャンバー 到達真空度 | 3軸マニピュレーター Z方向 | 3軸マニピュレーター R方向 | 3軸マニピュレーター チルト方向 | モーターコントローラー | サンプル加熱ヒーター 方式 | サンプル加熱ヒーター 到達温度 | サンプル加熱ヒーター ヒーター材 | 下部フランジ 形状 | 下部フランジ ポート | 下部フランジ 材質 | 下部フランジ 表面処理 | 下部フランジ 高温処理 | 下部フランジ リーク量 | 液体窒素シュラウド 材質 | 液体窒素シュラウド 方式 | 液体窒素シュラウド 処理 | 液体窒素シュラウド リーク量 | メインシャッター機構 方式 | 膜厚センサー移動機構 | 架台 | AC100V | AC200V | 圧縮空気 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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4元マグネトロンスパッタリング装置 |
要見積もり | ICF-356-N特殊/203/152/114/70 | ICF-203、ICF-152、ICF-114、ICF-70 | SUS316L | 複合電解研磨鏡面仕上げ | 真空ベーキング450℃×48時間以上 | 5×10^-11Pa・m3/sec | 1×10^-11Torr以下 (液体窒素シュラウド冷却かつ300l/s以上のターボ分子ポンプまたは、300l/s以上のイオンポンプ使用時) | 100mm (上下機構KUD-114/100Z) モーター駆動 | 360° (∞) (回転プラットホームKMRP-114) モーター駆動 | 90° (上下機構KUD-114/70SP) モーター駆動 |
ステッピングモーター用コントローラー 専用ボックス付き |
爪押さえ型 | 基盤表面温度Max1,200℃ |
Ta (ヒーター部) モリブデン (本体) 電極には、ロータリージョイントを採用 |
ICF-356/152×4/70×1 | ICF-203、ICF-152、ICF-114、ICF-70 | SUS316L | 複合電解研磨鏡面仕上げ | 真空ベーキング450℃×48時間以上 | 5×10^-11Pa・m3/sec | ステンレス316L | 液体窒素溜め込み式 (8/3″パイプ使用) | バフ研磨鏡面仕上げ、ヒートサイクル処理 (10回) | 5×10^-8Pa・m3/sec | トランスファーロッド方式 (オプション/モーター駆動) |
センサー：水晶振動子 (オプション) 取付フランジ：ICF-70 移動距離：100mm (精度0.1mm) |
材質：SS材／焼付塗装処理 (黒色) 寸法形状：600×1,200×1,500 (キャスター・アジャスター付き) |
単相30A | 三相20A | 5kg／cm2 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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- 本社所在地: 東京都