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薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置-マグネトロン・スパッタリング蒸着装置
薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置-北野精機株式会社

薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置
北野精機株式会社

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■特徴

本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能なサンプルホルダー回転機構を有し、試料冷却が同時に行えるシステムにより試料のダメージがありません。最大3元のターゲットが装着可能で多層成膜に優れております。 またサンプル及びティップ搬送の操作性や、安全にご使用頂く為のインターロック機能など人間工学に基づいたデザインです。

■装置構成

・スパッタ成膜室 ・蒸着ステージ駆動機構 ・試料冷却ステージ駆動機構 ・試料基盤シャッター機構 ・ロードロック室 ・試料搬送機構 ・蒸着源用コントローラー

  • シリーズ

    薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

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薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達真空度 基盤加熱温度 試料搬送機構 蒸着源制御
薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置-品番-マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

要見積もり

≦1.0E^-7Pa

基盤表面温度Max500℃

トランスファーロッド方式

エミッション及びスイープ制御

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  • 本社所在地: 東京都
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