薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置
北野精機株式会社
この製品について
■特徴
本装置はDCマグネトロンスパッタ源を用いたブレーナー型マグネトロンスパッタリング超高真空薄膜作製装置です。均一な成膜が可能なサンプルホルダー回転機構を有し、試料冷却が同時に行えるシステムにより試料のダメージがありません。最大3元のターゲットが装着可能で多層成膜に優れております。 またサンプル及びティップ搬送の操作性や、安全にご使用頂く為のインターロック機能など人間工学に基づいたデザインです。■装置構成
・スパッタ成膜室 ・蒸着ステージ駆動機構 ・試料冷却ステージ駆動機構 ・試料基盤シャッター機構 ・ロードロック室 ・試料搬送機構 ・蒸着源用コントローラー-
シリーズ
薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置
-
取扱企業
北野精機株式会社
-
カテゴリ
蒸着装置注目ランキング
もっと見る
蒸着装置の製品72点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
蒸着装置注目ランキング (対応の早い企業)
平均返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | 基盤加熱温度 | 試料搬送機構 | 蒸着源制御 |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
マグネトロン・スパッタリング蒸着装置 |
要見積もり | ≦1.0E^-7Pa | 基盤表面温度Max500℃ | トランスファーロッド方式 | エミッション及びスイープ制御 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
この商品を見た方はこちらもチェックしています
北野精機の取り扱い製品
この商品の取り扱い会社情報
- 本社所在地: 東京都