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半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT-SCP-BT
半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT-株式会社シンクロン

半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT
株式会社シンクロン



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この製品について

■概要

半導体・電子市場に適したCtoC対応クラスター型RAS方式成膜装置

■特徴

・ロードロック構造により高スループットで誘電体成膜を実現 ・バイアスによる段差埋め込みが可能 ・ウエハ処理に適したCtoC搬送 ・8inch基板への全面成膜も可能 主な用途

■用途

電子、電気の制御

■SiO2段差埋め込み成膜

・TC (TemperatureCompensated) ・SAW温度補償膜

■高密度・低ラフネス全面成膜

・ウエハ接合 ・SiO2,SiN各種パッシベーション膜

■誘電体多層膜

・SMR (SolidMountedResonator) 用音響多層膜 ・LED,LD (LaserDiode) 用光学薄膜

■スパッタチャンバ (Max2チャンバ接続可)

・Dualcathode (Φ12inch) ・ICPプラズマ源 ・基板バイアス機構 ・回転基板ステージ (Φ6inchx25pcs.,Φ8inchx20pcs.) ・排気系:14inchTMPx2,極低温トラップ,ドライポンプ ・SEMI/GEM準拠インターフェース

  • シリーズ

    半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT

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半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ロードロックチャンバ 搬送チャンバ
半導体、電子市場向けクラスター型RAS方式成膜装置 SCP-BT-品番-SCP-BT

SCP-BT

要見積もり

ウエハカセットステーション

真空ウエハ搬送ロボット、アライナ

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使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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