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イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC-SIC-900
イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC-株式会社シンクロン

イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC
株式会社シンクロン



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この製品について

■概要

各種接続端子、電極等の金属薄膜を形成するバッチ式蒸着装置です。金属薄膜を安定的に量産することができます。

■主な用途

・電子、電気の制御 ・SAWFilter/LED/PA/タイミングデバイス他

  • シリーズ

    イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC

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イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ドーム 膜厚計 蒸発源 基板クリーニング 排気システム オプション
イオン源による前処理によりコンタクト抵抗の低減が可能 金属用バッチ式蒸着装置 SIC-品番-SIC-900

SIC-900

要見積もり

Φ800mm

水晶式膜厚計 (ロータリーセンサ)

EB×1

RFイオン源

ドライポンプ/クライオポンプ

SEMI/GEM準拠インターフェース

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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