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耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i-SEC-S1300i
耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i-株式会社昭和真空

耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i
株式会社昭和真空



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この製品について

■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能

耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:IonAssistedDeposition) により充填密度の高い緻密で強固かつ耐腐食性の高いY2O2膜を形成出来ます。

■用途・応用例

半導体向けドライエッチャー。CVD装置の内部部品へシールド膜コーティング。

■特長

・厚膜成膜 ・RFイオンソース

■オプション

イオンプレーティング、2元同時蒸着、自公転治具、多面体ドーム

  • シリーズ

    耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i

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耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i 品番1件

次の条件に該当する商品を1件表示しています

商品画像 品番 価格 (税抜) 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量 到達圧力 排気速度 蒸発源 膜厚分布 排気系 真空槽 フットプリント
耐プラズマ膜用蒸着装置 SEC-S1300i-品番-SEC-S1300i

SEC-S1300i

要見積もり

DP+RP+MBP (マイスナートラップ / Meissner Trap)

W4,500mm×D3,900mm×H2,720mm

約4,500kg

AC200~220V (φ3) /95kVA (275A)

7.0×10-5Pa以下

大気圧より1.3×10-3迄15分以内

電子銃270° 偏向×2、電源10kW

基板面内±5%以内

DP+MBP+RP (マイスナートラップ)

Φ1,300×H1,450mm SUS304製

W4,500mm×D3,900mm×H2,720mm

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成膜方式: 蒸着法

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場(現在は東証スタンダード市場)を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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