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蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 排気ポンプ | 設置寸法 | 重量 | 電源容量 | 到達圧力 | 排気速度 | 蒸発源 | 膜厚分布 | 排気系 | 真空槽 | フットプリント |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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SEC-S900C |
要見積もり |
RP+MBP+CP |
W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm |
約3,000kg |
AC200~220V (φ3) /約67kVA (193A) |
5.0×10-5Pa以下 |
5.0×10-4Pa迄20分以内 |
電子銃270° 偏向×2,電源10kW×1 |
バッチ内±3%以内 |
RP/MBP/CRYO |
Φ900mm×H1,290mm SUS304製 |
W1,520mm×D1,240mm×H2,790mm |
蒸着装置の中で同じ条件の製品
成膜方式: 蒸着法
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15