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MOCVD装置 縦型リアクタ SV3001取扱企業
株式会社エピクエストカテゴリ
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | リアクタ形状 | 基板 (ウエハ) サイズ×枚数 | ウエハ面 | 最高加熱温度 | 基板回転機構 | 基板加熱 | プロセス排気 | 投入室 排気システム | 投入室 基板保管機構 (3枚ストック) | 輸送機構 | ガス制御ボックス | シリンダーキャビネット | 制御装置 操作パネル | 制御装置 異常表示 | 制御装置 インターロック機能 | 制御装置 自動成長システム | 制御装置 バックアップ電源 | 制御装置 保安装置 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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SV3001 |
要見積もり |
縦型石英製またはステンレス製 |
φ3インチ×1枚 |
フェイスアップ |
900℃ (制御用熱電対値) |
0~30rpm |
抵抗加熱方式 |
ロータリーポンプ (ドライポンプはオプション対応) |
ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ |
標準装備 |
トランスファーロッド式またはレール式 |
有機金属6系統、水素化物系3系統、キャリアガス2系統、ベントガス2系統、ダミーライン、パージライン |
47L (10L) 容器4本立 (ガス3本、窒素1本) |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
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成膜方式: CVD法
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成膜装置成膜装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価成膜方式
蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法構成環境
真空型 低圧型プラズマ利用有無
プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型基板搬送方式
固定基板型 回転基板型 ロール搬送型到達圧力 Pa
0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10基板サイズ mm
25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650設置面積 m²
1 - 5 5 - 10 10 - 20所要電力 kVA
10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35真空槽 mm
500 - 800 800 - 1,000基板バイアス V
0 - 5,000 5,000 - 25,000