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バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100-EB1100
バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100-キヤノンアネルバ株式会社

バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100
キヤノンアネルバ株式会社



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この製品について

ロードロックを標準装備し、多様なオプション設定で研究開発の様々な用途に対応するスパッタリング装置です。 豊富な実績を通じて培ってきた当社の真空技術およびスパッタリング技術を集約させた、研究開発用から小規模生産用に最適な高性能スパッタリング装置です。多彩なオプション機能のラインナップにより、お客様のご要望に応じた最適なシステムにカスタマイズする事が可能です。

■用途

研究開発・小規模生産用

■特長

・ロードロック室を標準装備 ・全自動操作 (排気操作、基板搬送、成膜プロセスを全自動で処理可能) ・φ4"カソードを最大4基搭載可能 (標準仕様3基) ・同時スパッタ対応可能 (オプション) ・基板高温加熱 (最高800 ℃) 対応可能 (オプション) ・トレイ搬送により、様々な基板サイズ (φ220 mmエリア内) や、成膜方式 (オフセット自転成膜、静止対向成膜) に対応可能 ・All In One設計の装置本体により省スペース化を実現

  • シリーズ

    バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100

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バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置構成 対応基板サイズ カソード 操作方法
バッチ/ロードロック 研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100-品番-EB1100

EB1100

要見積もり

ロードロック式、トレイ搬送方式

最大φ200 mm

φ4"カソード×3基 (標準) 、φ4"カソード×4基 (オプション) 、φ12.5"カソード×1基 (オプション)

全自動 (排気、搬送、成膜)

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

キヤノンアネルバ株式会社は1967年に設立し、長年培った真空、薄膜技術をベースに開発した各種装置、真空コンポーネントを製造、販売するメーカーです。 半導体デバイスやストレージデバイスの製造装置をはじめとする、超真空技術...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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