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クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100-FC7100
クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100-キヤノンアネルバ株式会社

クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100
キヤノンアネルバ株式会社

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この製品について

斜め入射回転スパッタ方式による優れた膜厚均一性とナノレベルの膜厚制御が可能なスパッタリング装置です。 当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用の、φ300 mm対応クラスター式スパッタリング装置です。

■用途

メタルゲート量産

■特長

・超高真空Co-スパッタによる膜組成制御 ・極薄膜の高精度な膜厚制御 (0.1 nm単位) 、優れた膜厚均一性 (1σ＜1 ％) ・Under 32 nmダマシン・ゲート形成プロセスにも対応可能 (PCM-PVDによる高カバレッジ成膜) ・小型カソード採用による低い材料コスト (容易な材料変更)

  • シリーズ

    クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100

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クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置構成 対応基板サイズ
クラスター メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100-品番-FC7100

FC7100

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クラスター式

φ300 mm基板

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この商品の取り扱い会社情報

キヤノンアネルバ株式会社

会社概要

キヤノンアネルバ株式会社は1967年に設立し、長年培った真空、薄膜技術をベースに開発した各種装置、真空コンポーネントを製造、販売するメーカーです。 半導体デバイスやストレージデバイスの製造装置をはじめとする、超真空技術...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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