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クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100-HC7100
クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100-キヤノンアネルバ株式会社

クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100
キヤノンアネルバ株式会社



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この製品について

ハードディスクの磁気ヘッド、磁気センサーなどの磁性体多層薄膜を優れた膜厚均一性で形成するスパッタリング装置です。 HC7100はGMRヘッド、トンネル効果を利用したTMRヘッド用のスパッタリング装置です。

■用途

磁気ヘッドの生産

■特長

・新規スパッタ技術のLRP (Low Pressure Remote Plasma Sputtering) の導入により、±1 %以下の優れた膜厚分布を実現 ・通常のスパッタ圧力より一桁低い0.02 Paでの低圧放電により、非常に平坦で低抵抗の膜を実現 ・超高真空により高いMR比を実現 ・豊富な成膜モジュールランナップ (多元カソード仕様)

  • シリーズ

    クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100

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クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置構成 対応基板サイズ
クラスター 磁気ヘッド用スパッタリング装置 HC7100-品番-HC7100

HC7100

要見積もり

クラスター式

φ150 mm、φ200 mm

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

キヤノンアネルバ株式会社は1967年に設立し、長年培った真空、薄膜技術をベースに開発した各種装置、真空コンポーネントを製造、販売するメーカーです。 半導体デバイスやストレージデバイスの製造装置をはじめとする、超真空技術...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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