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圧電膜形成スパッタリング装置-圧電膜形成スパッタリング装置
圧電膜形成スパッタリング装置-ジャパンクリエイト株式会社

圧電膜形成スパッタリング装置
ジャパンクリエイト株式会社

🧪 化学業界用 💻 電子・電気機器業界用

ジャパンクリエイト株式会社の対応状況

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この製品について

■特徴

・単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜が可能 ・プラズマエミッションモニターを搭載により圧電特性低下に寄与する元素検知可能 ・圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ・当社独自のスパッタカソードを搭載 ・ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ・当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し基板温度900℃を実現 ・発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能 ・トレイ搬送も対応可 ・CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

■用途

・半導体 ・MEMS ・電子部品 ・光学部品 ・車載部品

  • シリーズ

    圧電膜形成スパッタリング装置
  • 利用シーン

    化学業界用 / 電子・電気機器業界用

企業レビュー 5.0

Metoree経由で見積もり

2024年12月12日にレビュー済み

顧客対応への満足度

回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。

初回対応までの時間への満足度

4.22時間


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圧電膜形成スパッタリング装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ スパッタカソード スパッタ電源 プロセスガス 基板ステージ 真空排気 圧力制御 制御操作 データロギング 基板搬送 オプション
圧電膜形成スパッタリング装置-品番-圧電膜形成スパッタリング装置

圧電膜形成スパッタリング装置

要見積もり

最大φ12インチ

マグネトロン方式 ターゲットシャッタ

RFまたはDC

Ar、O2、N2、他

基板加熱:700℃ (基板表面)
自転:最高20rpm

構成1:TMP+DP
構成2:CP+DP

APC制御

制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC

外部メモリまたはPC

真空搬送ロボット

基板加熱900℃、基板バイアス (RFまたはDC) 、基板冷却 (低温成膜) 、ムービングマグネット、磁性材ターゲット用カソード、発光分析システム、トレイ搬送、Q-MASS など

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 100

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

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企業レビュー

5.0

会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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