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粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置-粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置
粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置-アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置
アリオス株式会社

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この製品について

■概要

本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの回転運動により試料を撹拌させることで凝集を防ぎ、均一かつ効率的にスパッタ成膜が可能です。

■特徴

・ターゲットサイズ150mm×50mmの専用矩形カソードユニットを標準装備しています。 ・高圧電源やモータ駆動に対するインターロックなど各種安全対策を講じています。 ・DC 1,200W (標準) で、RF仕様もご用意出来ます。 ・前面ハッチから放電状況が確認可能です。 ・試料ホルダの回転は0-20rpmの範囲で速度設定が可能です。 ・試料ホルダは試料を入れたまま着脱可能で、成膜後の試料回収が容易です。

■オプション

・試料撹拌翼 (脱着可能構造) ・シャッターユニット (ターゲット⇔試料ホルダ間) ・RF対応

■カスタム仕様

・カソード多元化 ・試料自動投入、回収機構

  • シリーズ

    粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

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粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 成膜チャンバー 主な搭載機器 排気系統 (一例) 到達圧力 カソードユニット ターゲット寸法 カソードユニット 冷却方法 カソードユニット DC電源 出力 試料ホルダ サイズ・形状 試料ホルダ 処理容量 試料ホルダ ホルダ材質 試料ホルダ 回転機構
粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置-品番-粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

要見積もり

φ360mm×L350mm (内寸) / SUS304
JIS350ハッチ機構

矩形マグネトロンカソードユニット
試料ホルダ

ターボ分子ポンプ (355L/s)
ロータリーポンプ (203L/min)
クリスタルイオンゲージ、隔膜真空計

5×10^-4Pa以下 (チャンバー内が空の状態にて)

50mm×150mm×t5mm (磁性体はt1mm)

水冷 (接点付き流量計)

MAX 1kV・1.2A (1,200W) 可変

ドラム形状 (円筒型)
φ250mm×L180mm (内寸)

0.5/1バッチ (試料直径:φ0.5mm)

SUS304

モータ駆動 (0-20rpm可変)

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

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  • 本社所在地: 東京都
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