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到達真空度
≦1.0E-5Pa
電子銃
最大出力30kW (15kW2A)
基板加熱温度
Max450℃
プラネタリー
蒸着時に同一軌道上を周回し、かつ自転することによって均一性の高い成膜作業が可能になります
装置制御
PLC (プログラマブルロジックコントローラー) での自動排気・自動立上げにより24時間全自動運転可能
型番
大型EB蒸着装置取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | 電子銃 | 基板加熱温度 | プラネタリー | 装置制御 |
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要見積もり | ≦1.0E-5Pa | 最大出力30kW (15kW2A) | Max450℃ | 蒸着時に同一軌道上を周回し、かつ自転することによって均一性の高い成膜作業が可能になります | PLC (プログラマブルロジックコントローラー) での自動排気・自動立上げにより24時間全自動運転可能 |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が金属膜の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15返答率
100.0%
返答時間
24.9時間
