株式会社サンバック

真空脱ガス炉D825は、アルミ試料を真空加熱し、脱ガスを行うことを目的とした装置です。最高加熱温度は450℃まで昇温可能です。各ヒータ...

本装置はセルの真空乾燥および電解液の注入装置です。最大300mm□サイズまで処理可能です。また加熱による真空乾燥、不活性ガス導入等で...

真空アーク溶解炉は消耗電極方式と非消耗電極方式と2種類あります。電源は300Aと600Aを選択可能で、鋳型の形状はご要望に応じてカスタマ...

高真空蒸着装置ED-1600は抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできます。排気系の立ち上げ、立...

インライン式スパッタ装置SP-2500Rは長尺の帯状、紐状基材に成膜するための装置です。基材の巻出し室 (ロード室) の後及び巻取り室 (ア...

真空乾燥装置E069は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなうことを目的とした装置です。各ヒーターゾーン6面を独立したPID方...

多元同時電子ビーム蒸着装置E505はチタン、プラチナ、ニッケル、クローム、金、スズを含む金属や酸化物を、電子銃を用いて高性能に成膜...

高真空蒸着装置RD-1600は有機物専用蒸着装置で、有機セルを4ヶ搭載しております。また、2ヶ同時成膜も可能です。L/L室が付属されており...

本装置は、対向陰極型マグネトロンスパッタ装置で、2対の陰極を設置し、基板回転によって2種類の薄膜を交互に成膜が可能です。

真空脱ガス炉SBF-200は電子部品および小型電気機器を真空環境下に置き、接着部や絶縁部およびコイル部を脱ガスし、品質を向上させること...

本装置はCu板ロール状のワークを真空乾燥及び焼鈍する為の装置です。本装置の加熱方式は、シースヒーターによる抵抗加熱方式と、窒素ガ...

超高真空溶解炉は合金材料における含有水素量の低減を図るため、超高真空下における溶解を行うために使用する抵抗加熱式の電気溶解炉で...

高真空蒸着装置RD-1250Rは高校・専門学校・大学校の真空工学教育用に開発された装置です。抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制...

高真空蒸着装置ED-1500は金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置で、電子銃5kWのルツボ4ヶ搭載しております。基板ホルダーはリ...

DCスパッタ装置SP-15000Dは実験用の小型装置ですが、大型ターゲットとクライオポンプによるドライ系排気が特徴です。AlやAl-Si膜のよう...

枚葉式スパッタ装置SP-12000Mは基材 (4インチまたは3インチウエハ) 25枚用のカセットを1個収納できるロード室 (アンロード室を兼ねる) ...

直線移動式スパッタ装置SP-35000Dは大型の基材取付台が、長方形のターゲットの下を直線的に移動します。大型の基材取付台は、少数の大型...

サーマルCVD装置CT-5500はポリSi (第1炉) 、SiO、PSG、BSG (第2炉) 、Si3N4 (第3炉) をコーティングできます。各炉は、それぞれ独立した...

真空脱ガス炉SBF-300CAは成型部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は300℃まで短時間で昇温可能です。炉体有効寸法は約1m3...

真空脱ガス炉SBF-H500TAは各種部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は500℃まで昇温可能です。炉体内部は5段式となっており...

内熱式真空加圧ロウ付け炉D043は、Moヒーターにより均熱領域を最高1,000℃まで昇温し、ロウ付けによるガス封止を行う装置です。圧力は×10...

真空焼結炉VB-1900は高真空状態において雰囲気内を1,100℃前後まで昇温させ、金属を焼結する為の装置です。本装置の最大の特徴は、クライ...

本装置は炉芯菅内の試料に対し、ガスフローしながら加熱、加熱後の雰囲気ガスの分析を行うことを目的とした装置です。先進中性子増倍材...

本装置は真空下で粘性のある液体を攪拌することにより、被液体に含有されている空気や水分を除去することが出来る装置です。本体外壁に...

高真空蒸着装置RD-1230はぺロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置です。抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸...

高真空蒸着装置ED-1500Rスタンダード型は抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。有機物、金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできま...

高真空蒸着装置ED-1500は水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。将来的に3元用電子銃の増設が可能。研究機構向けに開発された本...

高真空蒸着装置ED-1500は金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置です。電子銃10kWのルツボサイズが40mLと大きく、ルツボ点数も...

マルチスパッタSP-3300Mは3源スパッタ装置で、各カソードにおいてRFとDC2つのソースを使用することが出来ます。またRFとDCの同時スパッ...

半導体結晶表面改質装置CSR-2400はAr中で2,400℃まで加熱でき、半導体結晶表面改質後、装備のRHEED電子銃にて表面構造をその場観察するこ...