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92 点の製品
株式会社サンバック
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真空脱ガス炉D825は、アルミ試料を真空加熱し、脱ガスを行うことを目的とした装置です。最高加熱温度は450℃まで昇温可能です。各ヒータ...
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最新の閲覧: 7時間前
高温真空熱処理炉E356は、最高到達温度1,700℃の能力を有し、加熱源はカーボンヒーターにて熱処理を行う装置です。主に複数の材料同士を...
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本装置はCu板ロール状のワークを真空乾燥及び焼鈍する為の装置です。本装置の加熱方式は、シースヒーターによる抵抗加熱方式と、窒素ガ...
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真空アーク溶解炉は消耗電極方式と非消耗電極方式と2種類あります。電源は300Aと600Aを選択可能で、鋳型の形状はご要望に応じてカスタマ...
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プラズマCVD装置CP-1700は縦型石英管の外周に置かれたコイルによって発生したプラズマ中を、ヒーターを内蔵した基板ホルダーを上下する...
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内熱式真空加圧ロウ付け炉D043は、Moヒーターにより均熱領域を最高1,000℃まで昇温し、ロウ付けによるガス封止を行う装置です。圧力は×10...
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インライン式スパッタ装置SP-2500Rは長尺の帯状、紐状基材に成膜するための装置です。基材の巻出し室 (ロード室) の後及び巻取り室 (ア...
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本装置は、対向陰極型マグネトロンスパッタ装置で、2対の陰極を設置し、基板回転によって2種類の薄膜を交互に成膜が可能です。
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真空乾燥装置E069は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなうことを目的とした装置です。各ヒーターゾーン6面を独立したPID方...
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真空脱ガス炉SBF-200は電子部品および小型電気機器を真空環境下に置き、接着部や絶縁部およびコイル部を脱ガスし、品質を向上させること...
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-10000は希少元素を効率的に分離回収するリサイクル技術を開発するために使用する高周波誘導加熱真空溶解炉...
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本装置は、メタル・セラミックス型X線管及び電子管を真空中で“ロウ付け溶接”することを目的とした装置です。金属―セラミックスの強固な...
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多元同時電子ビーム蒸着装置E505はチタン、プラチナ、ニッケル、クローム、金、スズを含む金属や酸化物を、電子銃を用いて高性能に成膜...
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高真空蒸着装置RD-1600は有機物専用蒸着装置で、有機セルを4ヶ搭載しております。また、2ヶ同時成膜も可能です。L/L室が付属されており...
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高真空蒸着装置ED-1600は抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできます。排気系の立ち上げ、立...
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DCスパッタ装置SP-15000Dは実験用の小型装置ですが、大型ターゲットとクライオポンプによるドライ系排気が特徴です。AlやAl-Si膜のよう...
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枚葉式スパッタ装置SP-12000Mは基材 (4インチまたは3インチウエハ) 25枚用のカセットを1個収納できるロード室 (アンロード室を兼ねる) ...
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高真空蒸着装置RD-1300Rは小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機...
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高真空蒸着装置ED-1500は金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置で、電子銃5kWのルツボ4ヶ搭載しております。基板ホルダーはリ...
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直線移動式スパッタ装置SP-35000Dは大型の基材取付台が、長方形のターゲットの下を直線的に移動します。大型の基材取付台は、少数の大型...
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真空脱ガス炉SBF-H400DAは各種部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は400℃まで昇温可能です。炉体内部は2段式となっており...
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真空脱ガス炉SBF-H500TAは各種部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は500℃まで昇温可能です。炉体内部は5段式となっており...
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-400Rは誘導加熱式溶解炉で、Alを1,500g (鉄換算400g) の容量まで溶解可能です。高周波電源は5kW30kHz仕様...
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-500Rは誘導加熱式溶解炉で、鉄換算500gの容量まで溶解可能です。高周波電源は10kW15~30kHz仕様を採用し、...
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郵便番号 | 〒135-0002 |
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本社住所 | 東京都江東区住吉1-19-1ツインタワーすみとし住吉館205 |
創業年 | 1995年 |
資本金 | 15,000,000円 |
従業員数 | 13人 |
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株式会社サンバックの生産・加工施設が全国で1箇所登録されています。
東京都で株式会社サンバックの生産・加工施設が1箇所登録されています。
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