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株式会社サンバック

  • 東京都
  • 1995年
  • 13人
  • メーカー
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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。

事業内容

◆研究開発用・製造用の各種真空装置の設計・製造及び関連部品の販売
◆半導体・金属・有機材料等の薄膜作製と電子・光デバイス製造装置の設計・製造及び関連真空部品等の販売
◆各種真空装置・熱処理炉等のリサイクル品及び関連部品の販売
◆触針式表面形状測定サービス業務(段差膜厚測定)
◆各種真空装置等の故障修理及びオーバーホール等のサービス業務
◆真空・熱・光学・力学・分析用各種試験装置・測定器、電気電子通信機器・測定器及び電子部品の販売

会社沿革

◆1995.11 江東区森下に本社設立
◆1997.11 業務拡張のため江東区住吉に本社移転
◆2001.03 江戸川区船堀に工場設立
◆2003.08 業務拡張のため同じく江東区住吉に本社移転
◆2007.05 業務拡張のため江東区扇橋に工場移転
◆2009.07 日本真空工業会賛助会員加入
◆2020.11 会社設立25周年

主要取引先

◆官公庁様
◆民間企業様


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高真空蒸着装置 RD-1400 (code:9999)

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高真空蒸着装置RD-1400は小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構...

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高真空蒸着装置 RD-1230

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高真空蒸着装置RD-1230はぺロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置です。抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸...

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高真空蒸着装置 RD-1300 (code:9425)

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高真空蒸着装置RD-1300は小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構...

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RFスパッタ装置 SP-3600

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RFスパッタ装置SP-3600は4インチ3源スパッタ装置で、膜厚分布を良くするために各カソードのマグネットが回転する構造になっております。...

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レーザーCVD装置 CL-12000

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レーザーCVD装置CL-12000は高出力エキシマレーザーを使って、ヒーターの埋め込まれた100mm角の基板ホルダー上に成膜するレーザーCVD装置...

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真空脱ガス炉 SBF-300CA

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真空脱ガス炉SBF-300CAは成型部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は300℃まで短時間で昇温可能です。炉体有効寸法は約1m3...

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真空脱ガス炉 SBF-1100

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真空脱ガス炉SBF-1100はガラスフリット等を、大気圧雰囲気、不活性ガス雰囲気、真空雰囲気下で熱処理を行う装置です。ガス圧力を自動で...

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高真空蒸着装置 RD-1300R (code:B276)

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高真空蒸着装置RD-1300Rは歯学研究Au成膜専用の蒸着装置です。基板加熱はカートリッジヒーターによる基板直接加熱で、最高650℃まで加熱...

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高真空蒸着装置 RD-1350

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高真空蒸着装置RD-1350は金属成膜用抵抗加熱式蒸着装置です。本装置はクリーンルーム設置用に開発された装置で、排気系はオイルフリー仕...

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高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)

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高真空蒸着装置ED-1500は水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。将来的に3元用電子銃の増設が可能。研究機構向けに開発された本...

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真空脱ガス炉 SBF-250

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真空脱ガス炉SBF-250は各種部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は250℃まで昇温可能です。炉体内部は5段式となっており、...

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真空脱ガス炉 SBF-H300R

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真空脱ガス炉SBF-H300Rは成型部品の真空加熱を目的とした装置です。最高加熱温度は300℃まで短時間で昇温可能です。炉体内部は標準で2段...

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高真空蒸着装置 ED-1250R

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高真空蒸着装置ED-1250Rは小型蒸着装置の全機構搭載型装置です。研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構2対・電子銃・基板回転...

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高真空蒸着装置 RD-1300 (code:8659)

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高真空蒸着装置RD-1300は、Au、AuZnNi、AuGeNiをウエハ基板に成膜する為の装置です。メイン排気系はクライオポンプを採用し、蒸発源は抵...

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高真空蒸着装置 RD-1400 (code:4404)

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高真空蒸着装置RD-1400は抵抗加熱1極4段式の蒸着装置です。本装置はSbの蒸着膜の成膜専用に開発された装置です。排気系は600L/secクラス...

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RFスパッタ装置 SP-31000R (1764)

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RFスパッタ装置SP-31000Rは成膜室が大きく、小物基材への成膜を目的とした中量産用装置です。基板取付台は公転と自転が個別に動作でき、...

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粉末スパッタ装置

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本装置は粉末材料に金属等をスパッタする目的で開発された装置です。バレル内に粉末材をセットし、バレルが回転することにより粉末材全...

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真空脱ガス炉 SBF-H500TA

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高周波誘導加熱真空溶解炉 SVM-1000

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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-1000は誘導加熱式溶解炉で、金属を高周波誘導加熱により溶解する装置であります。研究開発用として多くの...

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コードレス小型スターラー NK-SB05

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コードレス小型スターラーです。バイアル瓶や少量の試料の攪拌に適しています。ポケットサイズなので持運びに便利です。コードレスなの...

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マルチスターラー Aセット

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マルチスターラー Bセット

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高真空蒸着装置 スタンダード型 ED-1500R

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高真空蒸着装置ED-1500Rスタンダード型は抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。有機物、金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできま...

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RFスパッタ装置 SP-3500R

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RFスパッタ装置SP-3500Rは使用できる基材の寸法は2インチ以下ですが、3個のターゲットを持っており、多層膜の連続成膜が可能です。スパ...

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真空脱ガス炉 SBF-350

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真空脱ガス炉SBF-350はドラム状の部品を真空乾燥させる為に開発された装置です。1つの乾燥室にφ80mmのドラムが12本収納可能で、装置全体...

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RFスパッタ装置 SP-1500R

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RFスパッタ装置SP-1500Rは成膜室は小型ですが、基材加熱温度も高く、RFモードのスパッタリングが出来ますので、基材の大きさが3インチ以...

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会社基本情報

郵便番号 〒135-0002
本社住所 東京都江東区住吉1-19-1ツインタワーすみとし住吉館205
創業年 1995年
資本金 15,000,000円
従業員数 13人
会社区分 メーカー
リンク 株式会社サンバック ホームページ

事業所情報

株式会社サンバックの生産・加工施設が全国で1箇所登録されています。

生産・加工施設

東京都で株式会社サンバックの生産・加工施設が1箇所登録されています。

扇橋工場 生産・加工施設

〒135-0011 東京都江東区扇橋1-21-3

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事業所はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。

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