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CVD (英: Chemical Vapor Deposition) とは、化学気相成長呼ばれる金属などの表面に薄膜を形成する方法の一つです。
金型や切削工具の表面硬化、半導体ウエハーの絶縁膜と保護膜の形成などの分野で使用されています。CVDで薄膜を形成する方法は、表面処理を行う対象物 (母材) を炉の中に入れ、そこに薄膜となる原料を含んだガス (原料ガス) を流しこみ、エネルギーを与えて化学反応により膜を形成します。
CVDにおいて原料ガスに反応エネルギーを与える方法には、主に熱、プラズマ、光の3つがあります。それぞれを熱CVD、プラズマCVD、光CDVと分類していて、それぞれに特徴があります。その他に、溶融温度の低い有機金属を加熱してガス化し、炉内に送り込み、高周波によって蒸着を行うMO CVDがあります。
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順位 | 会社名 | クリックシェア |
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1 | MMIセミコンダクター株式会社 |
23.1%
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2 | 株式会社アイ・シイ・エス |
20.5%
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3 | 中日本炉工業株式会社 |
10.3%
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4 | 株式会社インターフェイス |
5.1%
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5 | 三菱マテリアル株式会社 |
5.1%
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6 | ナラサキ産業株式会社 |
5.1%
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7 | 三ッ引興業株式会社 |
5.1%
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8 | 東栄産業株式会社 |
2.6%
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9 | 株式会社大和テクノシステムズ |
2.6%
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10 | 株式会社ウォルツ |
2.6%
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