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半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM-VAP200TM/VAP300TM
半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM-タツモ株式会社

半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM
タツモ株式会社

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この製品について

バッチ浸漬式洗浄モジュールと枚葉式洗浄モジュールを複合させたユニークな装置構成と なっており、フォトレジストやフィルムの剥離処理に適した洗浄装置です。

■製品特徴

・プラットホーム バッチ浸漬槽での一括洗浄と枚葉処理チャンバーの精密洗浄をあわせることにより、効率的なタクトタイムで清浄な剥離処理が行えます。また、高温薬液処理、高圧スプレー処理も対応可能です。オプションとして、防爆仕様にも対応可能です。 ・プロセスユニット 多種多様な有機溶媒に対応したハード構成となっています。 8"および12"の口径に対応いたします。 ・操作性 視認性に優れたインターフェースを採用しています。

  • シリーズ

    半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM

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半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 適用ワーク
半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM-品番-VAP200TM/VAP300TM

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この商品の取り扱い会社情報

タツモ株式会社

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県

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