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シリーズ
薄膜作製装置 PVD装置 ハイブリッド蒸着装置取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品92点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | 基板サイズ | 基板加熱温度 | 試料搬送 |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
ハイブリッド蒸着装置 |
要見積もり |
≦1.0E-7Pa |
2インチ |
Max1,000℃ |
トランスファーロッド |
蒸着装置の中で同じ条件の製品
基板加熱温度: 800 - 1000℃
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15返答率
100.0%
返答時間
19.4時間
