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光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ-SGC-S1700シリーズ
光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ-三弘エマテック株式会社

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ
三弘エマテック株式会社

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この製品について

■製品説明

高コストパフォーマンスのARコート専用のスタンダードマシンとなります。樹脂レンズへの成膜に最適です。RFイオンソース、光学モニター、反転パレットなど多彩な仕様の選択をいただくことが可能です。

■特徴

高効率排気系の採用によりφ1300クラスと比較しても成膜処理時間は±10%程度となります。広範囲照射が可能なグリッド式RFイオンソースを採用しており、パレット全面の膜質が安定します。設置面積の省スペース化、高さも抑えたコンパクトな設計となります。作業性を考慮した装置サイズ、大きすぎないパレットサイズを採用しています。

  • シリーズ

    光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ

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光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) メーカー
光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ-品番-SGC-S1700シリーズ

SGC-S1700シリーズ

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(株) 昭和真空

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

23.4時間


企業レビュー

4.8

会社概要

三弘エマテック株式会社は、1975年に設立された、真空機器、装置等の販売を行う企業です。

「真空技術」を軸とした、ポンプや分析機器、理化学機械を取り扱います。取り扱うメーカーは200社以上あり、顧客のニ...

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  • 本社所在地: 愛知県
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