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基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置取扱企業
株式会社片桐エンジニアリングカテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気時間 | ベルジャー | 蒸発源 | 排気系 | 真空計 | 膜厚計 | 操作系 | ユーティリティー | 設置面積 | 基板傾斜機構 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
高真空蒸着装置 |
要見積もり |
4×10^-5 Pa |
5×10^-4 Paまで10分以内 |
SUS 304 φ507×H422 |
抵抗加熱蒸発源3対、2kW 3直EBガン (オプション) |
TMP 800L/sec、RP 360L/min |
抵抗加熱蒸発源3対、2kW 3連EBガン (オプション) |
水晶振動式 |
排気系インターロック (タッチパテル) |
3φ 200V 50A、100V 15А |
W1,350×D1,040×H1,590~+500 |
2軸搭載 第1軸:±90° 第2軸:±45° |
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蒸着装置の製品129点中、注目ランキング上位6点
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15