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基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置-高真空蒸着装置
基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置-株式会社片桐エンジニアリング

基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置
株式会社片桐エンジニアリング



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この製品について

◼︎概要 ・ターボ分子ポンプ搭載でクリーンな成膜が可能 (到達圧力 4×10^-5Pa) ・基板傾斜機構搭載で基板をθ±90°、φ±45°傾斜成膜可能 ・蒸発源は抵抗加熱 3基、オプションでEB加熱に対応 ・水晶振動式膜厚モニター搭載 ◼︎動作原理 高真空蒸着装置 (KWー030D) は、小規模生産及び各研究期間の実験用としてコンパクト設計により、初心者でも容易に作業ができます。ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能です。 基板は標準で最大100mm×100mmに対応します。基板傾斜機構を搭載し、2軸の回転角度を調節することにより斜め蒸着が可能です。

  • シリーズ

    基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置

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基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 排気時間 ベルジャー 蒸発源 排気系 真空計 膜厚計 操作系 ユーティリティー 設置面積 基板傾斜機構
基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置-品番-高真空蒸着装置

高真空蒸着装置

要見積もり

4×10^-5 Pa

5×10^-4 Paまで10分以内

SUS 304 φ507×H422

抵抗加熱蒸発源3対、2kW 3直EBガン (オプション)

TMP 800L/sec、RP 360L/min
真空バルブ類一式、付属品

抵抗加熱蒸発源3対、2kW 3連EBガン (オプション)

水晶振動式

排気系インターロック (タッチパテル)
ベルジャー昇降、油圧駆動 (空圧変換)

3φ 200V 50A、100V 15А
冷却水 10L/min 空圧5~7kg/㎠G

W1,350×D1,040×H1,590~+500

2軸搭載 第1軸:±90° 第2軸:±45°

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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