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成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300-HFCVD-300
成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300-株式会社ExtenD

成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300
株式会社ExtenD



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この製品について

ダイヤモンド合成の幅広い需要に対応可能な大型熱フィラメントCVD装置

■特徴

・2段階自動レシピ運転 (シード→膜成長) ・フィラメント自動張力調整機構搭載 ・張力安定化時間を短縮 : 約5分 (炭化プロセス中) ・長時間無人運転可能 ・各種インターロック搭載 (水流量・ガス圧力) ・チャンバー全周水冷機構 ・R&Dから量産まで対応

■ダイヤモンド薄膜

化学的安定性、高熱伝導率、優れた半導体物性

■用途

電気化学用電極、放熱基板、耐放射線デバイス用コンタクト層 etc

  • シリーズ

    成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300

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成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 最大成膜エリア
成膜装置 12インチ対応 大型熱フィラメントCVD装置 Grasshoppe HFCVD-300-品番-HFCVD-300

HFCVD-300

要見積もり

300 × 300mm

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

成膜方式

蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法

構成環境

真空型 低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型 回転基板型 ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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