全てのカテゴリ

閲覧履歴

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-PBII―R450
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450
株式会社栗田製作所



無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■概要

サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。

  • シリーズ

    DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450

この製品を共有する



無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

成膜装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電源入力 真空槽サイズ 制御方式 排気完了真空圧力 真空ポンプ ガス圧力コントロール 真空計 マスフローコントローラ 高圧パルス電源 パルスRF電源 標準計測器 サイズ オプション
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-品番-PBII―R450

PBII―R450

要見積もり

3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約25kVA

片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L)

手動運転/自動運転 (タッチパネル入力)

1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)

ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ

自動圧力制御弁 (200Aフランジ)

電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ

7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)

出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW
出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz

750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能)

デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)

真空装置:2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm
操作盤:1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm
高圧パルス電源盤:850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm

冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

この商品を見た方はこちらもチェックしています

成膜装置をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

Copyright © 2025 Metoree