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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-PBII―R450
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450
株式会社栗田製作所



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この製品について

■概要

サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。

  • シリーズ

    DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450

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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電源入力 真空槽サイズ 制御方式 排気完了真空圧力 真空ポンプ ガス圧力コントロール 真空計 マスフローコントローラ 高圧パルス電源 パルスRF電源 標準計測器 サイズ オプション
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-品番-PBII―R450

PBII―R450

要見積もり

3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約25kVA

片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L)

手動運転/自動運転 (タッチパネル入力)

1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)

ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ

自動圧力制御弁 (200Aフランジ)

電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ

7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)

出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW
出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz

750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能)

デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)

真空装置:2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm
操作盤:1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm
高圧パルス電源盤:850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm

冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー

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