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DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000-PBII―C2000
DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000-株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000
株式会社栗田製作所



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この製品について

■概要

真空装置の長さが約2m、径が1.2mと大きいため、大型ワークへのコーティングも可能です。重量物運搬用に自動搬送台車もオプションでご用意しております。

  • シリーズ

    DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000

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DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電源入力 真空槽サイズ 制御方式 排気完了真空圧力 真空ポンプ ガス圧力コントロール 真空計 マスフローコントローラ 高圧パルス電源 パルスRF電源 標準計測器 オプション
DLC成膜装置 PBII&D装置 中型機仕様 PBII―C2000-品番-PBII―C2000

PBII―C2000

要見積もり

3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約80kVA

両面扉式、サイズφ1,200mm×L2,000mm (約2,230L)

手動運転/自動運転 (タッチパネル入力)

1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)

ターボ分子ポンプ2台、メカニカルブースターポンプ2台
ロータリーポンプ2台

自動圧力制御弁 (300Aフランジ) 2系統

電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ

7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)

出力電圧-20kVp、出力電流 90Ap、充電容量16kW
出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5,000Hz

1,500W (13.56MHz) (3,000Wに仕様変更可能)

デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)

冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー、クライオポンプ、自動搬送台車

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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