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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600-PBII―C600
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600-株式会社栗田製作所

DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600
株式会社栗田製作所

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この製品について

■概要

サイズがコンパクトの為、試験片作製や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。

  • シリーズ

    DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600

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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 電源入力 真空槽サイズ 制御方式 排気完了真空圧力 真空ポンプ ガス圧力コントロール 真空計 マスフローコントローラ 高圧パルス電源 パルスRF電源 標準計測器 サイズ オプション
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D中型機仕様 PBII―C600-品番-PBII―C600

PBII―C600

要見積もり

3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約30kVA

前面扉式、サイズφ650mm×L450mm (約150L)

手動運転/自動運転 (タッチパネル入力)

1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)

ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ

自動圧力制御弁 (200Aフランジ)

電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ

7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)

出力電圧-20kVp、出力電流45Ap、充電容量8kW
出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5,000Hz

1,500W (13.56MHz)

デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)

真空装置:2,000 (W) ×2,090 (H) ×1,050 (D) mm
操作盤:1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm
高圧パルス電源盤:850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm

冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー

フィルターから探す

成膜装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

成膜方式

蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法

構成環境

真空型 低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型

基板搬送方式

固定基板型 回転基板型 ロール搬送型

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社栗田製作所は、1949年に日新電機の協力工場として創業された電気電子機器製造販売・表面改質技術の専門企業です。 京都府綴喜郡宇治田原町に本社を構えており、群馬県前橋市にも事業拠点を持ちます。主力事業は高圧パルス...

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  • 本社所在地: 京都府

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