制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
シリーズ
イオンアシスト蒸着装置 OTFC-1100CBI/DBI取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
もっと見る
蒸着装置の製品121点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ | 基板ドーム | 基板ドーム回転速度 | 光学膜厚制御システム | 水晶式膜厚計 | 蒸発源 | イオンソース | 排気システム | 到達圧力 | 排気時間 | 基板ヒータ設定温度 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
OTFC-1100CBI/DBI |
要見積もり |
SUS304, φ1,100mm×1,520mm (H) |
φ 950mm |
10 rpm ~ 50 rpm (可変) |
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ |
XTC/3 +6 点ロータリーセンサ |
電子銃2基 |
17 cm RF イオンソース |
あらびきポンプ+拡散ポンプ2基+ポリコールド |
7.0×10^-5 Pa以下 |
15 分 (大気圧~ 1.3×10-3Pa まで) |
最高：350℃ |
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
