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高真空蒸着装置 ED-1600-ED-1600
高真空蒸着装置 ED-1600-株式会社サンバック

高真空蒸着装置 ED-1600
株式会社サンバック

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この製品について

高真空蒸着装置ED-1600は抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできます。排気系の立ち上げ、立ち下げ、蒸着準備、ベントを自動で行い、成膜制御も水晶式膜厚計により自動で行います。加熱機構はハロゲンランプ2基を標準装備しておりますので、基板加熱も300℃まで短時間で昇温可能です。研究用として開発された本装置は中規模の生産用としても十分満足できる仕様で、各方面の研究機構、メーカー様に納入させて頂いております。蒸着装置は金額が高価だという多くのご要望を、弊社は原価の見直しを行った結果、中規模生産用装置として破格の1000万円台を実現しました。仕様も多種多様。貴社・貴学のご要望に合わせて設計・製作可能です。

  • シリーズ

    高真空蒸着装置 ED-1600

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高真空蒸着装置 ED-1600 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 真空室径 蒸着機構 基板形状 基板回転 基板加熱 膜厚計 真空排気系 真空計 制御系 操作方法 ユーティリティ 電気 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 寸法
高真空蒸着装置 ED-1600-品番-ED-1600

ED-1600

要見積もり

5.0×10-4Pa以下※常温・無負荷・脱ガス時

φ600mm×650mmH水冷パイプ巻 SUS304 電解研磨

電子銃最大投入電力:5kW
ルツボ容量:2.9mL
ルツボ個数:4個
抵抗加熱最大電力:AC5V400A
抵抗電極数:1対 (ボート)

□50mm □100mm いずれも対応

ドーム形状:φ550mm×100mmH×2mmt (材質:Al)
モーター直接駆動方式 0~30rpm

ハロゲンランプ1.5kW×2式
常温~300℃迄昇温可能
制御方式:サイリスタ制御・PID方式デジタル温調計

水晶振動式膜厚計

油回転ポンプ:667/800L/min[50Hz/60Hz]
ターボ分子ポンプ:500L/sec

大気圧検知器/ピラニ真空計/電離真空計

ターボ分子ポンプコントローラ

手動/自動 (排気系立ち上げ/蒸着準備/ベント/排気系立ち下げ:4種類)

AC200V三相20kVA

20L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

0.5MPa以上

装置架台本体:955mmW×770mmD× (1,810) mmH
制御盤:590mmW×800mmD× (1,825) mmH

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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